Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (<特集>多層膜・人工格子・グラニューラー)
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概要
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Fe/[Ni_<81>Fe_<19>/Cu]_<30> multilayers with giant magnetoresistance (GMR) were deposited by the dual ion beam sputtering method, which allows the crystallite orientations and interfacial structures to be controlled by the ion bombardment. In this study, only a few monolayers at interfaces in Ni-Fe/Cu multilayers were exposed to ion bombardment, which causes local interfacial mixing and diffusion. A large MR ratio, low saturation resistivity, and relatively sharp interfacial structure were attained for films deposited by ion bombardment when the acceleration valtage of the bombarding ion source was 160 V. Reducing the residual stress seems to be effective for attaining good magnetoresistive ch aracteristics.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1997-04-15
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
渡邊 健太郎
東北大
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
-
宮本 泰敬
NHK技研
-
宮本 泰敬
東工大
-
宮本 泰敬
東京工業大学工学部電子物理工学科
-
渡邊 健太郎
東京工業大学電子物理工学科
-
直江 正彦
東京工業大学
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