宮本 泰敬 | 東京工業大学工学部電子物理工学科

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概要

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関連著者

• 中川 茂樹

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 中川 茂樹

  東京工業大学

• 直江 正彦

  東京工業大学 電子物理工学専攻

• 宮本 泰敬

  NHK技研

• 宮本 泰敬

  東工大

• 宮本 泰敬

  東京工業大学工学部電子物理工学科

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• 西村 高一

  東工大

• 渡辺 健太郎

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 西村 高一

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著作論文

• Krイオンビームスパッタ堆積によるGMR多層膜の特性改善
• Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
• Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
• Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
• Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
• イオンビームスパッタ法によるNi-Fe/Cu巨大磁気抵抗効果多層膜のバッファー層制御特性

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