大飽和磁化Fe-Co(-Ta):N薄膜の軟磁気特性と熱処理効果 (<特集> 磁性薄膜, 一般)
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概要
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合金中最大の飽和磁化4πM_sをもつFe-Co合金に注目し、Fe_<90>Co_<10>薄膜にNを添加することで結晶の微細化を行い軟磁気特性を改善した。さらに、Taを添加すると結晶の微細化が促進されることがわかり、この結果4πM_sが17kG, 透磁率450のFe-Co-Ta:N膜を得た。150℃の低温アニールを行った結果、膜中の応力が緩和され、全てのFe-Co-Ta:N薄膜について透磁率が上昇した。また、Fe-Co-Ta:Nを100Å厚のTiと多層化して一層あたりの磁性層厚を1000Å以下にすることで、アニールを施さない薄膜においても高い比透磁率μ_r を得ることができた。またこの多層膜は高温のアニールに対しても、磁気的に安定であることが示された。
- 1996-09-13
著者
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中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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中川 茂樹
東京工業大学
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直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
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末光 克巳
東京工業大学工学部電子物理工学科
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直江 正彦
東京工業大学
-
末光 克巳
東工大
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