小間 大弘 | 横国大工
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概要
関連著者
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大野 真也
横国大工
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小間 大弘
横国大工
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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飯田 貴則
横浜国立大学工学府
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田中 正俊
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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小間 大弘
横浜国立大学
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大和 洋太
横浜国立大学工学府物理情報工学専攻
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大野 真也
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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首藤 健一
横浜国立大学工学部
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首藤 健一
横国大工
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佐藤 和成
横浜国立大学工学府
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寅丸 雅光
横浜国立大学工学府
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大和 洋太
横浜国立大学
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松田 巌
東大物性研
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原沢 あゆみ
東大物性研
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奥田 太一
東大物性研
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柿崎 明人
東大物性研
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原沢 あゆみ
東京大学物性研究所
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田中 正俊
横国大工
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山崎 紀明
横国大工
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中山 史人
横国大工
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佐藤 和成
横国大工
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大野 真也
横浜国大工
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首藤 健一
横浜国大工
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田中 正俊
横浜国大工
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寅丸 雅光
横国大工
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飯田 貴則
横国大工
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九鬼 隆良
横国大工
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奥田 太一
広島大学放射光科学研究センター
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大和 洋太
横浜国大工
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小間 大弘
横浜国大工
著作論文
- 26aTD-2 Ti/Si(001)表面におけるシリサイド形成過程と局所電子状態の考察(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 24aXB-5 Ti/Si(001)表面における局所電子状態の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 25pPSB-46 Si表面上のチタンの拡散とSi吸収によるシリサイドの形成(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Si(111)表面上のBr吸着における多臭化物の形成過程
- 21aPS-33 Si(111)表面上のハロゲン吸着におけるサイト選択性(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))