大野 真也 | 横浜国大工
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概要
関連著者
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大野 真也
横浜国大工
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田中 正俊
横浜国大工
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大野 真也
横国大工
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田中 正俊
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学
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首藤 健一
横浜国大工
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大野 真也
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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首藤 健一
横国大工
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首藤 健一
横浜国立大学工学部知能物理工学科
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鈴木 隆則
防衛大
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田中 正俊
横国大工
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小泉 順也
横浜国大工
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三戸部 史岳
横浜国大工
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滝澤 純一
横浜国大工
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落合 俊之
横国大工
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落合 俊之
横浜国大工
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原沢 あゆみ
東大物性研
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奥田 太一
東大物性研
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柿崎 明人
東大物性研
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横山 崇
横浜市大国際総合科学
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山崎 紀明
横国大工
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中山 史人
横国大工
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寅丸 雅光
横浜国大工
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山崎 紀明
横浜国大工
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中山 史人
横浜国大工
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寅丸 雅光
横浜国立大学工学府
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為谷 亮太
横浜国大工
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浅利 友隆
横浜国大工
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横山 崇
横浜市立大学生命ナノ
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浅利 友隆
横国大工
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横山 崇
横浜市大国際総合
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松田 巌
東大物性研
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市川 雄一
理研
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原沢 あゆみ
東京大学物性研究所
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青木 健志
横浜国立大学工学府
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関谷 隆夫
横浜国大工
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松田 厳
東大物性研
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飯田 貴則
横浜国大工
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佐藤 和成
横浜国大工
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青木 健志
横浜国大工
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市川 雄一
横浜国大工
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山崎 貴彦
横浜国大工
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佐藤 和成
横浜国立大学工学府
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飯田 貴則
横浜国立大学工学府
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小間 大弘
横国大工
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九鬼 隆良
横国大工
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九鬼 隆良
横浜国大工
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奥田 太一
広島大学放射光科学研究センター
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杉本 征之
横浜国大工
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西山 文貴
横浜市大国際総合
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脇田 創
横国大工
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脇田 創
横浜国大工
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大和 洋太
横浜国大工
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小間 大弘
横浜国大工
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大和 洋太
横浜国立大学工学府物理情報工学専攻
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藻川 芳晴
横浜国大工
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藻川 芳晴
横浜国立大学大学院工学府
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藤森 佑人
横国大院工
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二之宮 成樹
横国大院工
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二之宮 成樹
横浜国大工
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藤森 佑人
横浜国大工
著作論文
- 28pYG-4 Si(111)-(√×√)-Ag表面上に配列したオリゴチオフェン分子の低温STM観察(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22aXA-5 酸素吸着Ti/Si(001)表面の構造と電子状態(22aXA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 29pPSB-56 Si(001)表面におけるO_2,NO,CO反応過程の反射分光による検討(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pPSB-3 Si(001)表面上の銀薄膜成長過程のリアルタイム反射分光(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pTD-4 表面光反射分光によるSi(001)表面反応の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSA-77 Si(001)表面における電子線励起欠陥形成過程の実時間反射分光(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 24pXJ-11 Ti/Si(001)表面における拡散過程の解析(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aPS-48 表面差分反射分光法によるSi(001)酸化過程における温度依存性の測定(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pPSA-15 オリゴチオフェン超薄膜の表面差分反射分光による評価(22pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSB-29 Si(001)表面の反射率差分光スペクトル構造の温度依存性(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aPS-33 Si(111)表面上のハロゲン吸着におけるサイト選択性(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-26 酸素吸着Si(001)表面光反射スペクトルのクラスター計算による検討(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pPSA-25 電解質溶液中のAu表面上に吸着したシステイン分子の表面反射分光(26pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))