26pPSA-62 Si-LWオージェ電子-Si 2s光電子コインシデンス分光によるSi-2s内殻正孔緩和過程の研究(26pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 2013-03-26
著者
-
垣内 拓大
愛媛大学理学部化学科
-
小柏 洋輔
群馬大学大学院教育学研究科
-
奥平 幸司
千葉大学工学部
-
奥沢 誠
群馬大教育
-
田中 正俊
横国大院工
-
間瀬 一彦
KEK物構研
-
垣内 拓大
愛媛大院理工
-
大野 真也
横国大院工
-
奥平 幸司
千葉大院融合科学
-
平賀 健太
横国大院工
-
新江 定憲
横国大院工
-
兼村 瑠威
横国大院工
-
小柏 洋輔
群馬大教育
-
梁瀬 虹太朗
群馬大教育
-
高野 優作
群馬大教育
-
金山 典嗣
千葉大院融合科学
-
所畑 成明
筑波大理工
-
開場 大一郎
筑波大理工
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