末光 眞希 | 東北大学学際科学国際高等研究センター
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概要
関連著者
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末光 眞希
東北大学学際科学国際高等研究センター
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末光 眞希
東北大学電気通信研究所
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成田 克
山形大学工学部
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遠藤 哲郎
東北大学電気通信研究所
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赤羽 正志
長岡技術科学大学
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遠藤 哲郎
東北大学学際科学国際高等研究センター
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安井 寛治
長岡技術科学大学
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成田 克
山形大学
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高田 雅介
長岡技術科学大学電気系
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高田 雅介
長岡技科大
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黒木 雄一郎
長岡技術科学大学電気系
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高田 雅介
長岡技術科学大学
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黒木 雄一郎
長岡技術科学大学工学部
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深田 祐介
長岡技術科学大学電気系
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伊藤 隆
東北大学電気通信研究所
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中澤 日出樹
弘前大学大学院理工学研究科
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中澤 日出樹
弘前大学理工学部
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伊藤 隆
東北大学学際科学国際高等研究センター
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成田 克
九州工業大学工学部
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中澤 日出樹
弘前大学
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安部 和貴
長岡技術科学大学電気系
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羅 炯竣
東北大学学際科学国際高等研究センター
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村田 威史
東北大学学際科学国際高等研究センター
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村田 威史
東北大学学際科学国際高等センター
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社本 真一
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門中性子物質科学研究ユニット
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吉越 章隆
日本原子力研究所・関西研究所・放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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寺岡 有殿
原研
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社本 真一
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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山本 喜久
スタンフォード大学ギンズトン研究所
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朝岡 秀人
日本原子力研究所東海研究所
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小前 泰彰
長岡技術科学大学
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今野 篤史
東北大学
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山本 喜久
東北大学電気通信研究所
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富樫 秀晃
東北大学電気通信研究所
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加藤 篤
東北大学電気通信研究所
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吉越 章隆
(独)日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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加藤 篤
東北大学学際科学国際高等研究センター
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富樫 秀晃
東北大学学際科学国際高等研究センター
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今野 篤史
東北大学学際科学国際高等研究センター
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山本 喜久
東北大学学際科学国際高等研究センター
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成田 克
九州工科大学
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山崎 竜也
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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末光 眞希
東北大通研
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吉越 章隆
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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朝岡 秀人
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
原研 放射光科学研セ
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末光 真希
東北大学電気通信研究所
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栗本 大詩
長岡技術科学大学
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成田 克
長岡技術科学大学
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田村 和之
長岡技術科学大学
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高橋 和希
長岡技術科学大学
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江藤 淳平
長岡技術科学大学工学部電気系
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山本 喜久
NTT電気通信研究所
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ARNOLD Alguno
東北大学学際科学国際高等研究センター
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後藤 成一
東北大学学際科学国際高等研究センター
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山本 喜久
国立情報学研究所:スタンフォード大学
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山本 喜久
日本電信電話株式会社 Ntt物性科学基礎研究所:スタンフォード大学 ギンツトン研究所
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山本 喜久
スタンフォード大:nii
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山本 喜久
スタンフォード大学 国際共同研究量子もつれプロジェクト
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山本 喜久
E.l. Ginzton Laboratory Stanford University
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田村 和之
長岡技術科学大学 工学部 電気系
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小前 泰彰
長岡技術科学大学電気系
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江藤 淳平
長岡技術科学大学電気系
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山本 喜久
国立情報学研究所情報学プリンシプル研究系
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山本 喜久
国立情報学研究所:スタンフォード大学:東京大学
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社本 真一
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
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栗本 大詩
長岡技術科学大学 工学部 電気系
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構
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山本 喜久
国立情報学研究所量子情報国際研究センター:スタンフォード大学ギンツトン研究所
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寺岡 有殿
日本原子力研究所放射光科学研究センター
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寺岡 有殿
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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吉越 章隆
日本原子力研究所
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寺岡 有殿
日本原子力研究所
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朝岡 秀人
日本原子力研
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Alguno ARNOLD
東北大学学際科学国際高等研究センター
著作論文
- C-6-8 触媒反応CVD(Cat-CVD)法によるGaN結晶膜の省資源成長技術(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
- ホットメッシュCVD法によるGaN成長 : ルテニウムコーティッドタングステンメッシュの効果(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-9 RuコートWを用いたHot-mesh CVD法によるGaN膜成長(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- MCML (MOS Current Mode Logic)インバーター回路における許容しきい値電圧ばらつきのガイドライン,AWAD2006)
- MCML (MOS Current Mode Logic)インバーター回路における許容しきい値電圧ばらつきのガイドライン
- Si(110)とSi(100)表面の初期酸化過程の違い : リアルタイム光電子分光測定から(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- C-6-7 Hot-mesh CVD法を用いたSiC/Si(111)上へのGaN成長(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- Hot-Mesh CVD法によるSi熱酸化膜上の(100)配向SiC結晶(電子部品・材料,及び一般)
- Si(001)上ゲルマン吸着に伴う水素移動とGe/Si原子交換の観察
- Ge/Si(111)-7×7ヘテロエピタキシャル成長におけるストレスその場測定
- Siエピタキシーの表面化学と成長モデリング
- Si(001)上シラン/ゲルマン吸着と水素脱離過程の多重内部反射赤外分光観察