安部 和貴 | 長岡技術科学大学電気系

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概要

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• 長岡技術科学大学電気系の論文著者

関連著者

• 高田 雅介

  長岡技術科学大学電気系

• 高田 雅介

  長岡技科大

• 赤羽 正志

  長岡技術科学大学

• 安井 寛治

  長岡技術科学大学

• 安部 和貴

  長岡技術科学大学電気系

• 高田 雅介

  長岡技術科学大学

• 黒木 雄一郎

  長岡技術科学大学電気系

• 黒木 雄一郎

  長岡技術科学大学工学部

• 三浦 仁嗣

  長岡技術科学大学

• 成田 克

  山形大学工学部

• 末光 眞希

  東北大学電気通信研究所

• 遠藤 哲郎

  東北大学電気通信研究所

• 深田 祐介

  長岡技術科学大学電気系

• 遠藤 哲郎

  東北大学学際科学国際高等研究センター

• 伊藤 隆

  東北大学電気通信研究所

• 中澤 日出樹

  弘前大学大学院理工学研究科

• 中澤 日出樹

  弘前大学理工学部

• 伊藤 隆

  東北大学学際科学国際高等研究センター

• 成田 克

  九州工業大学工学部

• 末光 眞希

  東北大学学際科学国際高等研究センター

• 中澤 日出樹

  弘前大学

• 成田 克

  山形大学

• 宮口 孝司

  新潟県工業技術総合研究所レーザー・ナノテク研究室

• 井上 泰宣

  長岡技術科学大学

• 末光 眞希

  東北大通研

• 西山 洋

  長岡技術科学大学

• 末光 真希

  東北大学電気通信研究所

• 佐藤 健

  新潟県工業技術総合研究所レーザー・ナノテク研究室

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著作論文

• C-6-8 触媒反応CVD(Cat-CVD)法によるGaN結晶膜の省資源成長技術(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
• ホットメッシュCVD法によるGaN成長 : ルテニウムコーティッドタングステンメッシュの効果(薄膜プロセス・材料,一般)
• C-6-10 Hot-mesh CVD法による極薄top-Si層を有するSOI基板上へのSiC成長(C-6.電子部品・材料,一般講演)
• C-6-5 Hot-Mesh CVD法を用いたSiCOI構造形成とMEMS応用(C-6.電子部品・材料,一般講演)
• C-10-10 Hot-Mesh CVD法によるSiC低温結晶成長における水素ラジカルの効果(C-10.電子デバイス,一般講演)

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