Ge/Si(111)-7×7ヘテロエピタキシャル成長におけるストレスその場測定
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2007-09-10
著者
-
社本 真一
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門中性子物質科学研究ユニット
-
社本 真一
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
-
朝岡 秀人
日本原子力研究所東海研究所
-
末光 眞希
東北大学学際科学国際高等研究センター
-
山崎 竜也
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
-
朝岡 秀人
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
-
ARNOLD Alguno
東北大学学際科学国際高等研究センター
-
後藤 成一
東北大学学際科学国際高等研究センター
-
社本 真一
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門
-
朝岡 秀人
日本原子力研
-
Alguno ARNOLD
東北大学学際科学国際高等研究センター
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