二瓶 瑞久 | Mirai-selete
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概要
関連著者
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二瓶 瑞久
Mirai-selete
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二瓶 瑞久
科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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二瓶 瑞久
独立行政法人産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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小川 修一
東北大学多元物質科学研究所
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二瓶 瑞久
CREST・JST
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高桑 雄二
東北大学多元物質科学研究所
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小川 修一
東北大学 多元物質科学研究所
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高桑 雄二
東北大学 多元物質科学研究所
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粟野 祐二
慶大
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二瓶 瑞久
富士通株式会社
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佐藤 元伸
富士通株式会社
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横山 直樹
(株)富士通研究所
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横山 直樹
富士通
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池永 英司
Crest・jst
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粟野 祐二
富士通研
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池永 英司
(財)高輝度光科学研究センター
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佐藤 信太郎
富士通研
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粟野 祐二
富士通株式会社
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粟野 祐二
(株)富士通研究所
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横山 直樹
岡山大学大学院工学研究科
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横山 直樹
株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター:(現)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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池永 英司
高輝度光科学研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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池永 英司
財団法人高照度光科学研究センター
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川端 章夫
富士通
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佐藤 元伸
東北大学多元物質科学研究所:(独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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横山 直樹
神戸大学医学部附属病院周産母子センター
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角 治樹
東北大学多元物質科学研究所
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近藤 大雄
株式会社富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター
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粟野 祐二
富士通(株):jst-crest
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横山 直樹
ナノテクノロジー研究センター株式会社富士通研究所
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粟野 祐二
(株)富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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佐藤 信太郎
富士通(株)
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川端 章夫
富士通(株)
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近藤 大雄
富士通(株)
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二瓶 瑞久
富士通(株)
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横山 直樹
(独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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二瓶 瑞久
(独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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横山 直樹
(独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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二瓶 瑞久
(独)産業技術総合研究所 連携研究体 グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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室 隆桂之
JASRI
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室隆 桂之
SPring-8 JASRI
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室 隆桂之
財団法人高輝度光科学研究センター
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高桑 雄二
東北大科研
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横山 直樹
神戸大学小児科
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池永 英司
高輝度光科学研究センター
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室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
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室 桂隆之
JASRI SPring-8
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高見 知秀
東北大学多元物質科学研究所
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西窪 明彦
CREST・JST
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池永 英司
財団法人高輝度光科学研究センター(JASRI)
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高見 知秀
ヴイアールアイ株式会社
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粟野 祐二
Mirai-selete
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二瓶 瑞久
富士通研究所(株)
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高桑 雄二
東北大学・科学計測研究所
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粟野 祐二
富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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佐藤 信太郎
富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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岩井 大介
富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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二瓶 瑞久
(株)富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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川端 章夫
(株)富士通研究所ナノテクノロジー研究センター
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佐藤 信太郎
富士通研究所ナノエレクトロニクス研究センター
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横山 直樹
産業技術総合研究所連携研究体gnc
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佐藤 元伸
科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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尾白 佳大
東北大学多元物質科学研究所
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犬飼 学
財団法人高照度光科学研究センター
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佐藤 元伸
東北大学多元物質科学研究所
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二瓶 瑞久
(独)産業技術総合研究所連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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室 隆桂之
SPring-8-JASRI
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佐藤 元伸
(独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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川端 章夫
(独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
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村上 智
(独)産業技術総合研究所 連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター
著作論文
- CVD成長多層グラフェン膜の顕微ラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
- カーボンナノチューブのCVD成長技術と電子デバイス応用(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- Si熱酸化の統合反応モデル
- カーボンナノチューブのCVD成長技術と電子デバイス応用(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- CT-1-5 カーボンナノチューブデバイス(CT-1.CMOSを越える革新デバイスの現状と展望,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
- 金属ナノ粒子からのカーボンナノチューブ成長
- チタン・コバルト二元系微粒子からのカーボンナノチューブ成長
- シリサイド触媒による多層カーボンナノチューブのプラズマCVD成長
- 4. カーボンナノチューブを用いたVLSI配線(次世代コンピュータを支える超高速・超高密度インタコネクション技術)
- 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長 : 結晶性の放電条件依存(配線・実装技術と関連材料技術)
- 3.カーボンナノチューブ/グラフェンによる電気インタコネクション技術(インタコネクション技術)
- ラマン分光法およびXPSによるSiO_2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究(配線・実装技術と関連材料技術)
- 排熱TSVへ向けたナノカーボン材料の熱特性評価(配線・実装技術と関連材料技術)