最終講義 新しいシリコンの時代を目指して

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 東北大学電気通信研究所の論文

著者

• 大見 忠弘

  東北大学

関連論文

• ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの位置決め制御における摩擦補償法
• スティックスリップ補償と連続軌跡追従制御に基づく超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
• カーボン汚染フリー表面クリーニング及びウェハ搬送技術
• 究極のクリ-ンル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
• 究極のクリ-ン・ル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
• フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
• MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
• 適応オブザーバに基づく次世代露光装置用超精密ステージの静止摩擦補償法
• SPIDER駆動精密ステージの位置決め制御における実験的摩擦補償法
• アンチ･ワインドアップ補償による高速I-P位置制御系の一構成法
• 摩擦モデルに基づく非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
• High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• 615 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの高速モーション制御
• 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの連続軌跡追従制御系の構成法
• ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
• 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 その1 シミュレーションプログラム開発と適用
• しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-2-
• しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-1-
• 次世代半導体のための新素材
• 最終講義 新しいシリコンの時代を目指して
• Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
• MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
• 東北大学 未来情報産業研究館スーパークリーンルーム : フラクチュエーションフリーファシリティー
• ステンレス表面の酸化クロム不働態処理
• Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
• スーパクリーン化技術への挑戦(精密工学の最前線)
• 超微細加工における環境技術
• 極微量表面吸着水分の精密計測技術
• フッ素ガスを用いた金属表面処理
• ニューロンMOSを用いた多値インテリジェントメモリ
• 高性能減圧プロセス用真空排気システムの最適設計
• デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
• 電流駆動シリサイデーションを用いたアンチフューズ技術
• 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
• TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
• 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
• SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
• ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
• 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
• 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
• D-52 クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 : その1 シミュレーションプログラム開発と適用
• B-37 二酸化塩素を用いた斜行ハニカム式空気殺菌浄化システムの開発 : 二酸化塩素の殺菌・脱臭特性

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク