B-37 二酸化塩素を用いた斜行ハニカム式空気殺菌浄化システムの開発 : 二酸化塩素の殺菌・脱臭特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Recently, it becomes more important to reduce airborne microbes and nasty smell from the viewpoint of indoor air quality. We developed an air cleaning and sterilization system with oblique honeycomb by using chlorine dioxide (ClO_2). In this study, we examined the sterilization and deodorization properties of chlorine dioxide. Gaseous chlorine dioxide showed the ability of sterilization for the microbes at the concentration of 0.1ppm, and decomposed some compounds, such as trimethylamine, ammonia and methylmercaptan. It was considered that chlorine dioxide was suitable for the cleaning and sterilization system.
- 2005-07-25
著者
-
大見 忠弘
東北大学
-
高塚 威
新日本空調(株)技術開発研究所
-
白井 泰雪
東北大未来科学技術共同研究センター
-
青山 健治
東北発電工業(株)
-
伊藤 和秀
東北発電工業(株)
-
稲毛 亮太
新日本空調(株)技術開発研究所
-
神戸 正純
新日本空調
-
三浦 邦夫
新日本空調
-
白井 泰雪
東北大学
-
稲毛 亮太
新日本空調
-
青山 健治
東北発電工業
-
高塚 威
新日本空調
関連論文
- ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの位置決め制御における摩擦補償法
- スティックスリップ補償と連続軌跡追従制御に基づく超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 41196 居住空間における温湿度の快適・省エネ制御方法に関する研究(その5) : 夏季冷房を想定したアクティブスイング空調が居住者の熱的快適性に及ぼす影響(快適性評価(1),環境工学II)
- 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- RTN測定の高精度化・高速化技術とRTN特性に強い影響度を示すプロセス条件(携帯電話用カメラ,デジタルスチルカメラ,ビデオカメラ(ハイビジョン)とそのためのイメージセンサ,モジュール,特別企画「CCD誕生40周年記念講演-黎明期-」)
- カーボン汚染フリー表面クリーニング及びウェハ搬送技術
- 究極のクリ-ンル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
- 究極のクリ-ン・ル-ム--極限微細化電子回路の実現を目指して
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム
- MOSFET特性ばらつき、RTSノイズの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Stress Induced Leakage CurrentとRandom Telegraph Signalノイズとの相関(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)
- 適応オブザーバに基づく次世代露光装置用超精密ステージの静止摩擦補償法
- SPIDER駆動精密ステージの位置決め制御における実験的摩擦補償法
- アンチ･ワインドアップ補償による高速I-P位置制御系の一構成法
- 摩擦モデルに基づく非共振型超音波アクチュエータ駆動精密ステージの一制御法
- High Current Drivability FD-SOI CMOS with Low Source/Drain Series Resistance(Session 9B : Nano-Scale devices and Physics)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 615 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの高速モーション制御
- 非共振型超音波モータを用いた精密ステージの連続軌跡追従制御系の構成法
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- 41485 低湿度雰囲気における高温ポリシリコン用ガラス表面への吸着水分量の検討(化学物質汚染低減効果の評価, 環境工学II)
- 半導体製造クリーンルーム環境におけるフタル酸ジブチルのシリコンウェハ表面への吸着速度定数
- ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 その1 シミュレーションプログラム開発と適用
- 分子シミュレーションによるSiウェハ表面状態と分子衝突速度の吸着挙動に与える影響
- しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-2-
- しなやかな情報処理を実現する世界初の4端子デバイス-1-
- 次世代半導体のための新素材
- 最終講義 新しいシリコンの時代を目指して
- Impact of fully depleted silicon-on-insulator accumulation-mode CMOS on Si(110) (シリコン材料・デバイス)
- 抗菌処理を施した空調機器の抗菌性能の評価方法と評価結果
- MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 分子シミュレーションによるシリコンウェハ表面への各種分子状汚染物質の平衡吸着量
- 水蒸気吸着剤の総括熱物質移動係数 : 第2報 : 吸着ロータ層における移動係数
- 水蒸気吸着剤の総括熱物質移動係数 : 第1報 : 吸着剤粒子充填層における移動係数
- The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
- The data analysis technique of the atomic force microscopy for the atomically flat silicon surface(Session9A: Silicon Devices IV)
- 固定床型デシカント換気空調機の開発 : 第1報 : 各種吸着材を用いたデシカントユニットの性能評価
- Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
- Study on Compositional Transition Layers at Gate Dielectrics/Si Interface by using Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
- 固定床型デシカント換気空調機の開発 : 第2報 : 蓄熱ユニットを備えたデシカント換気空調システムの吸着材再生方式に関する検討
- 451 住宅用コンパクト再生方式省エネ型換気空調システムの開発 : 第24報 異なる吸着材に対するデシカントユニット直接加熱再生の性能比較(省エネルギー(5))
- 東北大学 未来情報産業研究館スーパークリーンルーム : フラクチュエーションフリーファシリティー
- ステンレス表面の酸化クロム不働態処理
- 4502 コンパクト再生方式省エネ型換気空調システムの開発 : その1 基礎検討結果について(S52-1 環境低負荷型の省エネルギー・新エネルギー利用技術(吸着・吸収)(1),S52 環境低負荷型の省エネルギー・新エネルギー利用技術(吸着・吸収))
- Data Analysis Technique of Atomic Force Microscopy for Atomically Flat Silicon Surfaces
- A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
- A Statistical Analysis of Distributions of RTS Characteristics by Wide-Range Sampling Frequencies
- A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
- A Material of Semiconductor Package with Low Dielectric Constant, Low Dielectric Loss and Flat Surface for High Frequency and Low Power Propagation(Session2: Silicon Devices I)
- スーパクリーン化技術への挑戦(精密工学の最前線)
- 超微細加工における環境技術
- シリコンウェハ汚染に関する計算化学的検討
- 極微量表面吸着水分の精密計測技術
- 41645 コンパクト再生方式省エネ型換気空調システムの開発 : 第12報 異なる蓄熱材を用いた場合の顕熱蓄熱式熱交換器効率への影響(室内空気質,環境工学II)
- フッ素ガスを用いた金属表面処理
- 分子シミュレーションによる分子状汚染物質およびSiウェハ表面の電荷分布と吸着挙動
- クリーンルーム構成材料のアウトガス評価法(環境工学)
- ニューロンMOSを用いた多値インテリジェントメモリ
- 41625 住宅用コンパクト再生方式省エネ型換気空調システムの開発 : 第25報 住宅用換気空調システムのAPFによるエネルギー評価手法の提案(エアコン,環境工学II)
- 高性能減圧プロセス用真空排気システムの最適設計
- デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
- 21 傾斜地畑土壌における物質移動の空間的変動(3) : 草地土壌の流出特性に及ぼす微地形の影響(北海道支部講演会要旨)
- 1-16 土壌断面形態および水分物理性の微地形による変動 : 天北東部の低位段丘地における調査例(1. 土壌物理)
- 空調機器効率の見える化 : 湿度を考慮したAPF評価法
- 41637 住宅用コンパクト再生方式省エネ型換気空調システムの開発 : 第21報 2塔切り替え式蓄熱型換気装置における切り替え時間の効率への影響(換気システム(1),環境工学II)
- 分子シミュレーションによるシリコンウェハ表面のケミカル汚染物質の吸着挙動
- オゾンによる臭気原因物質の分解
- 電流駆動シリサイデーションを用いたアンチフューズ技術
- 高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)
- 埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)
- SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)
- 異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)
- 41144 低露点室における作業者の快適性評価 : 第2報 極低湿度環境における快適性の影響因子に関する考察(人体・生活と湿度,環境工学II,2012年度大会(東海)学術講演会・建築デザイン発表会)
- 41143 低露点室における作業者の快適性評価 : 第1報 人体からの水分発生量とPMVとの相関(人体・生活と湿度,環境工学II,2012年度大会(東海)学術講演会・建築デザイン発表会)
- 41125 ドライルームにおける水分蒸発速度の実験的研究(熱水分同時移動,環境工学II,2013年度日本建築学会大会(北海道)学術講演会・建築デザイン発表会)
- D-8 光触媒シートによるタバコ脱臭の評価
- D-36 フィルター UV システムにおける微生物透過率 : (第1報) HEPA・中性能・粗塵フィルタの細菌透過率
- G-9 アウトガス放散速度に与える気流速度の影響
- G-45 抗菌処理を施したコイルの性能評価
- G-55 空調用ダクト内付着粉塵量の簡易測定法による評価
- D-52 クリーンルームを有する施設の省エネルギー化に関する研究 : その1 シミュレーションプログラム開発と適用
- B-37 二酸化塩素を用いた斜行ハニカム式空気殺菌浄化システムの開発 : 二酸化塩素の殺菌・脱臭特性