分子シミュレーションによるSiウェハ表面状態と分子衝突速度の吸着挙動に与える影響
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概要
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分子動力学法を用いた計算化学的手法により,Si(100)ウェハ表面に吸着する分子状汚染物質の吸着挙動を表面状態および衝突速度の点から評価した.半導体デバイス製造環境を考慮し,吸着汚染物質に低分子シロキサン(D5),フタル酸エステル類のフタル酸ジブチル(DBP),フタル酸ジオクチル(DOP),イソプロピルアルコール(IPA)を選択した.Siウェハ表面状態として3種類のモデルを作成し,1モデルについてSiウェハ表面に水分子がある場合と無い場合の挙動を解析した.Siウェハ表面に水分子が存在する場合,汚染物質は吸着しやすくなることが示された.
- 社団法人空気調和・衛生工学会の論文
- 2007-12-05
著者
-
宮本 明
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
遠藤 明
東北大
-
遠藤 明
東北大学大学院工学研究科
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
Kumagai M
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
高塚 威
新日本空調(株)技術開発研究所
-
古山 通久
東北大学大学院工学研究科 応用化学専攻
-
神戸 正純
新日本空調(株)
-
古山 通久
九州大学稲盛フロンティア研究センター
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科
-
古山 通久
東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻
-
古山 通久
東京大学大学院工学系研究科
-
Kubo Momoji
Department Of Materials Chemistry Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
神戸 正純
新日本空調株式会社 技術開発研究所
-
Kubo Momoji
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
高塚 威
新日本空調株式会社 技術開発研究所
-
神戸 正純
新日本空調
-
宮本 明
東北大学未来科学共同研究センター:東北大学大学院工学研究科化学工学専攻:東北大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
高塚 威
新日本空調
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