実験融合マルチレベルコンピュータ化学手法の開発とシリコン材料・デバイスへの応用(プロセス科学と新プロセス技術)

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概要

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コンピュータの進歩とともに、永年実験的研究が主体であったもの造りの分野でも、新しい化学、コンピュータ化学が生まれてきている。それを、産業革新のための新しい学問、強力な手法にまで育むことが重要である。原子・分子レベルの計算手法に加え、メソ・マクロレベルのシミュレータを開発することにより、製品レベルの予測も可能となる。さらに、電気伝導、熱伝導、摩擦・機械強度、発光・吸光、化学反応、電気化学反応、光化学反応、プラズマ反応などマルチフィジックスシミュレーション手法を開発することにより、多彩な産業分野への応用、産学連携の道が拓ける。本講演では、半導体、エレクトロニクス分野への応用を紹介する。
2011-10-13

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