プラズマディスプレイ用MgO保護膜の劣化プロセスの解明と理論設計(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
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概要
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プラズマディスプレイの開発においては、プラズマ環境下におけるMgO保護膜の劣化特性の向上が最重要課題となっている。そこで本研究では、当研究室で開発したTight-Binding量子分子動力学計算プログラムColorsと分子動力学計算プログラムNew-RYUDOを用いて、Xe照射下でのMgO保護膜の劣化特性について検討を行った。その結果、MgO保護膜の劣化特性に関して、MgO保護膜の破壊挙動のみならず、破壊された後のMgOの再結晶化プロセスを解明することが非常に重要であることを指摘した。さらに、MgO(001)面、MgO(011)面、MgO(111)面では、異なったMgOの再結晶化プロセスが起こることを解明した。
- 2005-09-30
著者
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
宮本 明
東北大学大学院 工学研究科
-
古山 通久
東北大学大学院工学研究科 応用化学専攻
-
DEL CARPIO
東北大学大学院工学研究科 応用化学専攻
-
菊地 宏美
東北大学大学院工学研究科
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科
-
Del Carpio
東北大学 大学院工学研究科応用化学専攻
-
菊地 宏美
東北大学大学院工学研究科:広島大学大学院先端物質研究科
-
遠藤 明
東北大学流体科学研究所
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科化学工学専攻
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科
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