プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと再結晶化プロセス
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概要
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プラズマディスプレイの開発においては、プラズマ環境下におけるMgO保護膜の劣化特性の向上が最重要課題となっている。そこで本研究では、当研究室で開発したTight-Binding量子分子動力学計算プログラムColorsと分子動力学計算プログラムNew-RYUDOを用いて、Xe照射下でのMgO保護膜の構造破壊ダイナミクスについて検討を行った。その結果、表面吸着種のない清浄なMgO保護膜は、Xe照射によって構造が破壊されるものの、その後、再結晶化によってもとの岩塩構造に戻るのに対し、水分子やCO_2分子が吸着したMgO保護膜は、再結晶化を起こしにくく、アモルファス層が形成されることが明らかにされた。つまり、表面に吸着した汚染分子がMgO保護膜の再結晶化を妨げることが、MgO保護膜の劣化メカニズムとして重要であることが明らかにされた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-09-28
著者
-
遠藤 明
東北大学大学院工学研究科
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科応用化学専攻
-
高羽 洋充
東北大学大学院工学研究科化学工学専攻
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
宮本 明
東北大学大学院 工学研究科
-
古山 通久
東北大学大学院工学研究科 応用化学専攻
-
DEL CARPIO
東北大学大学院工学研究科 応用化学専攻
-
菊地 宏美
東北大学大学院工学研究科
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科
-
古山 通久
東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻
-
Del Carpio
東北大学 大学院工学研究科応用化学専攻
-
菊地 宏美
東北大学大学院工学研究科:広島大学大学院先端物質研究科
-
Kubo Momoji
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科化学工学専攻
-
高羽 洋充
東北大学大学院工学研究科
-
坪井 秀行
東北大学大学院工学研究科
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