プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと再結晶化プロセス

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概要

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プラズマディスプレイの開発においては、プラズマ環境下におけるMgO保護膜の劣化特性の向上が最重要課題となっている。そこで本研究では、当研究室で開発したTight-Binding量子分子動力学計算プログラムColorsと分子動力学計算プログラムNew-RYUDOを用いて、Xe照射下でのMgO保護膜の構造破壊ダイナミクスについて検討を行った。その結果、表面吸着種のない清浄なMgO保護膜は、Xe照射によって構造が破壊されるものの、その後、再結晶化によってもとの岩塩構造に戻るのに対し、水分子やCO_2分子が吸着したMgO保護膜は、再結晶化を起こしにくく、アモルファス層が形成されることが明らかにされた。つまり、表面に吸着した汚染分子がMgO保護膜の再結晶化を妨げることが、MgO保護膜の劣化メカニズムとして重要であることが明らかにされた。
社団法人電子情報通信学会の論文
2006-09-28

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