フルオロカーボンプラズマのSiO_2表面における反応ダイナミクスに関する計算化学的検討
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概要
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フルオロカーボンプラズマとSiO_2表面の相互作用について,当研究室独自の高速化量子分子動力学法を用いて検討した.その結果,より高い入射エネルギーのラジカル照射によりSi-O結合の切断およびC-O,Si-F結合の生成が起きた.これらは実験的に観察される反応の初期過程を再現するものであり,本手法はこのようなプロセスの解析に有効であると考えられる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-10-22
著者
-
遠藤 明
東北大学大学院工学研究科
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
宮本 明
東北大学大学院 工学研究科
-
篠田 克己
東北大学大学院工学研究科
-
横須賀 俊之
東北大学大学院工学研究科
-
今村 詮
広島国際学院大学工学部
-
今村 詮
広島国際学院大学
-
加納 正明
(株)東芝 生産技術センター
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科
-
新村 忠
(株)東芝 生産技術センター
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