高効率半導体生産ラインを実現する高性能バックポンプの開発
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概要
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現在半導体・液晶用プロセス装置に使われているターボ分子ポンプやバックポンプはプロセスが行われている数十〜数百mTorrの圧力領域において排気能力が低く, 大量のガスを流さなければならない高速プロセスには適していない. ポンプのローターを不等リード, 不等傾斜角スクリュー構造にすることにより粘性流域から分子流域にわたり高い排気能力を有する全く新しいバックポンプを開発した. このポンプは反応生成物の堆積がなく, メンテナンスフリーで小型で消費電力が小さいため次世代小規模量産ラインに最適である.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-08-01
著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
阿久津 功
東北大学工学研究科電子工学専攻
-
平山 昌樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
阿久津 功
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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