Aharoni Herzl | 東北大学未来科学技術共同研究センター

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概要

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• 東北大学未来科学技術共同研究センターの論文著者

関連著者

• Aharoni Herzl

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• SHIBATA Tadashi

  Department of Physics,Faculty of Science,Osaka University

• Shibata Tadashi

  Department Of Information And Communication Engineering The University Of Tokyo

• Nakada A

  Vlsi Design And Education Center The University Of Tokyo

• Shibata T

  Department Of Information And Communication Engineering The University Of Tokyo

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University

• KANEMOTO Kei

  Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• NAKADA Akira

  Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• AHARONI Herzl

  Department of Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tohoku University

• OKA Mauricio

  Department of Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tohoku University

• TAMAI Yukio

  Department of Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tohoku University

• Shibata Tadashi

  Department Of Electrical Engineering And Information Systems School Of Engineering The University Of

• AHARONI Herzl

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• Ohmi T

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Oka Maurichio

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• Ohmi Tadahiro

  Department Of Electronic Engineering

• Tamai Yukio

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Tohoku University

• Kanemoto Kei

  Department Of Electronic Engineering Graduate School Of Engineering Tohoku University

• Aharoni Herzl

  New Industry Creation Hatchery Center Tohoku University

• Shibata T

  Ntt Photonics Laboratories Ntt Corporation:(present Address)ntt Science And Core Technology Group Nt

• Ohmi Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center (niche) Tohoku University

• Aharoni Herzl

  Department of Electrical and Computer Engineering, Ben Gurion University of the Negev, Beer-Sheva 84105, Israel

• Shibata Tadashi

  Department of Electrical Engineering and Information System, The University of Tokyo, Bunkyo, Tokyo 113-8656, Japan

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 須川 成利

  東北大学 大学院 工学研究科

• 須川 成利

  東北大学大学院工学研究科

• 平山 昌樹

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科

• OHMI Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University

• 関根 克行

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• Shibata T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• 平山 昌樹

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 斉藤 祐司

  東北大学大学院工学研究科:(現)セイコーエプソン(株)生産技術開発本部

• 大坪 和雄

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• Ohmi Tadahiro

  New Industry Creation Hatchery Center Future Information Industry Creation Center Tohoku University

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

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著作論文

• A Comparative Examination of Ion Implanted n^+p Junctions Annealed at 1000℃ and 450℃
• Effect of Substrate Boron Concentration on the Integrity of 450℃-Annealed Ion-Implanted Junctions
• マイクロ波励起高密度Kr/O_2/N_2プラズマを用いたシリコン酸窒化膜の低温形成
• Ultrashallow and Low-Leakage p^+n Junction Formation by Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) and Low-Temperature Post-Implantation Annealing
• Ultra-Shallow and Low-Leakage p^+n Junctions Formation by Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) and Low-Temperature Post-Implantation Annealing

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