島田 浩行 | 東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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概要
関連著者
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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中尾 慎一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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大嶋 一郎
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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大嶋 一郎
東北大学大学院工学研究科
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島田 浩行
セイコーエプソン株式会社
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島田 浩行
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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中尾 慎一
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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須川 成利
東北大学 大学院 工学研究科
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須川 成利
東北大学大学院工学研究科
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大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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小野 泰弘
東北大学大学院工学研究科
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小野 泰弘
元東北大工
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小野 泰弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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平山 昌樹
東北大学未来科学技術共同研究センター
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程 イ涛
東北大学大学院工学研究科
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平山 昌樹
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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中川 宗克
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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Ono Yasuhiro
Department Of Applied Physics Graduate School Of Engineering Tohoku University
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須川 成利
東北大学大学院 工学研究科
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大見 忠弘
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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大見 忠弘
東北大学大学院工学研究科
著作論文
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxメタルゲートFDSOI-CMOS技術
- 高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成に関する研究