メガソニックを用いた室温レジスト剥離技術
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概要
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我々は、超純水にイソプロピルアルコール(IPA)とフッ化カリウム(KF)を添加した溶液にメガソニックを照射することにより物理的にレジストを剥離させる技術を開発した。30mm×30mm角のサンプルを使用して、300ÅSiO_2上に塗布したレジストを130℃でベーキングしたポジ型レジストをIPA/KF/Megasonicにより剥離を行った結果、7O秒で完全に剥離が終了した。レジストは、溶解されるのではなく物理的に除去できている。よって、剥離後のレジストはフィルターで除去できるため剥離液の再利用が可能である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-09-27
著者
-
大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
-
小島 泉里
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
自在丸 隆行
野村マイクロ・サイエンス株式会社開発部
-
尾前 俊吉
Tokuyama Asia Pacific Pte. Ltd
-
小島 泉里
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻:野村マイクロ・サイエンス株式会社開発部
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
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