菅原 健太郎 | 東北大学大学院工学研究科
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概要
関連著者
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遠藤 明
東北大学大学院工学研究科
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久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
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磯田 直征
東北大学大学院工学研究科
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佐々木 由美子
東北大学大学院工学研究科
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菅原 健太郎
上智大学理工学部
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遠藤 梨紗
東北大学大学院工学研究科
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内田 晶子
東北大学大学院工学研究科
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千葉 景子
東北大学大学院工学研究科
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菅原 健太郎
東北大学大学院工学研究科
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千田 朝子
東北大学大学院工学研究科
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松浦 純
東北大学大学院工学研究科
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篠田 克己
東北大学大学院工学研究科
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久保 百司
東北大学大学院工学研究科
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千葉 景子
東北大学大学院工学研究科応用化学専攻
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伊賀 英樹
東北大学大学院工学研究科
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横須賀 俊之
東北大学大学院工学研究科
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今村 詮
広島国際学院大学工学部
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今村 詮
広島国際学院大学
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宮本 明
東北大学未来科学技術共同研究センター
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宮本 明
東北大学大学院 工学研究科
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宮本 明
東北大学未来科学共同研究センター:東北大学大学院工学研究科化学工学専攻:東北大学大学院工学研究科応用化学専攻
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寺本 章伸
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大見 忠弘
東北大学未来科学技術共同研究センター
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二井 啓一
東北大学未来科学技術共同研究センター
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寺本 章伸
東北大学未来科学共同センター
-
大見 忠弘
東北大学未来科学共同センター
著作論文
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算(プロセスクリーン化と新プロセス技術)