河瀬 和雅 | 三菱電機先端総研

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概要

• 同名の論文著者
• 三菱電機先端総研の論文著者

関連著者

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 河瀬 和雅

  三菱電機先端総研

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 黒川 博志

  三菱電機先端総研

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 谷村 純二

  三菱電機(株)先端総研

• 若尾 和年

  三菱電機ULSI技術開発センター

• 谷村 純二

  三菱電機先端総研

• 井上 真雄

  三菱電機ULSI技術開発センター

• 梅田 浩司

  三菱電機ULSI技術開発センター

• 谷村 純二

  三菱電機先端技術総合研究所

• 辻川 真平

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 辻川 真平

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 赤松 泰彦

  (株)ルネサステクノロジプロセス開発部

• 上原 廉

  三菱電機先端総研

• 上原 廉

  三菱電機 先端技総研

• 赤松 泰彦

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

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著作論文

• 非酸化性雰囲気昇温されたH終端Si表面状態のXPSによる評価
• ラジカル窒化酸化膜中NのXPS評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 酸素ラジカル処理したCVDシリコン酸化膜の高輝度放射光利用X線反射率測定(プロセスクリーン化と新プロセス技術)

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