赤松 泰彦 | (株)ルネサステクノロジプロセス開発部

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概要

• 同名の論文著者
• (株)ルネサステクノロジプロセス開発部の論文著者

関連著者

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 辻川 真平

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 辻川 真平

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 赤松 泰彦

  (株)ルネサステクノロジプロセス開発部

• 赤松 泰彦

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ生産技術本部ウエハプロセス技術統括部プロセス開発部

• 由上 二郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 由上 二郎

  (株)日立製作所 中央研究所

• 河瀬 和雅

  三菱電機先端総研

• 由上 二郎

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• 由上 二郎

  ルネサス テクノロジ

• 寺本 章伸

  東北大学未来科学共同センター

• 大見 忠弘

  東北大学未来科学共同センター

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著作論文

• NBTIから考えるSiONゲート絶縁膜のスケーラビリティ(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• ラジカル窒化酸化膜中NのXPS評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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