C-6-1 Ni/Si固相反応系におけるNiSi-NiSi_2相の低温での共存形成(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
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概要
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- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2012-08-28
著者
-
武山 真弓
北見工業大学電気電子工学科
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐藤 勝
北見工業大学電気電子工学科
-
武山 眞弓
北見工業大学電気電子工学科
-
野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
-
徳田 奨
北見工業大学
-
徳田 奨
北見工業大学電気電子工学科
-
徳田 奨
北見工業大学工学部技術部
-
野矢 厚
北見工業大学工学部
-
野矢 厚
北見工業大学
-
佐藤 勝
北見工業大学
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