Al-Y合金薄膜に形成される表面酸化層のキャラクタリゼーションと形成過程の検討
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概要
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Al-Y合金薄膜表面に形成される表面酸化層のキャラクタリゼーションと形成過程を調べた.合金中のAlは選択酸化により最表面に薄いAl_2O_3層を形成しようとするが,その形成をある程度保障できるような合金組成では, Al_2O_3中のYが2次的に酸化されるにもかかわらず表面の保護性を保持することができる.一方,最表面のAlの選択酸化を十分保障できない合金組成では, Y_2O_3の形成と共に合金内部でのAlの還元が生じ,酸化は容易に内部に進行する。このことより,極めて活性な希土類金属であるYも,Alとの合金組成を適切に選べば表面保護性を確保できることが明らかとなった.また,得られた酸化層中では,Al_2O_3とY_2O_3が単純に混在した形で形成されているのではなく,互いに希薄な成分酸化物が他からの化学状態の影響を受けていることが明らかとなった.これらの表面酸化層の形成過程は,AlとYのイオン化ポテンシャル,化学親和力,生成熱等の違いばかりでなく,拡散反応種カチオンおよびアニオンの輸送形態にも依存して決定されることが明らかとなった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-25
著者
-
武山 真弓
北見工業大学電気電子工学科
-
村上 佳隆
北見工業大学工学部電気電子工学科 : (現)東光株式会社
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
武山 真弓
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学
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