Al/Al_3Zr/Zr/Siコンタクト構造の熱的安定性
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概要
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Si-LSIにおけるAlメタライゼーションの分野では、Siとの低接触抵抗化を図ると同時に、熱的に高安定なコンタクト構造を実現することが課題である。そこで我々は、低接触抵抗を示すシリサイド形成で有望視されているZrの特徴を活かすため、ZrのオーバレイヤーとしてAl_3Zr金属間化合物を用いることの有用性を前に報告した。今回はこの考え方を更に拡張し、より実際的なコンタクト系としてAl/Al_3Zr/Zr/Si系にAlオーバレイヤを設けたAl/Al_3Zr/Zr/Siコンタクト構造を構成し、Al/Zr/Si系の中間介在層としてAl_3Zr介在させた効果を介在させない場合と比較検討したので以下に報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
柳沢 英人
北見工業大学工学部能材料工学科
-
柳沢 英人
北見工業大学
-
柄沢 元
北見工業大学工学部
-
砂田 栄志
北見工業大学工学部
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学
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