周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの電気的特性
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概要
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Hfはアニオン拡散によって酸化が進行することから、Al/Hf 2層金属膜を陽極酸化した場合、上層に形成されるAl酸化物の酸素輪送能力が低いため、下層Hf酸化物の酸化状態が不完全となり良好なキャパシタが得られない。我々は前に、このAlとHfの中間にTa介在層を入れることにより、Ta酸化物を下層Hfへの酸素供給媒体として機能させ、低損失なキャパシタが得られることを示した。この問題のもう一つの解決法として、Al酸化膜が薄い場合には酸素供給がそれほど阻害されないと期待できることから、Al層を薄く分散させるという視点で、Al/Hfの周期的な積層膜による陽極酸化キャパシタについて検討したので以下に報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
-
土橋 剛
旭川高専
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
土橋 剛
旭川工業高等専門学校
-
梅沢 利二
札幌学院大学
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学
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