低化成電圧で作製したTa_2N陽極酸化膜キャパシタの熱安定性

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概要

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Ta_2N陽極酸化膜キャパシタは優れた耐熱性を有しているが、酸化膜厚を薄くしたとき、どの程度までこの耐熱性を維持できるかを検討するため、化成電圧を低減して作製したキャパシタのtanσ、TCC及び漏れ電流を評価した。その結果、化成電圧を80Vまで低減させた陽極酸化膜キャパシタでも、400℃までの大気中熱処理に対してtanσ、TCCはほとんど劣化しないことがわかった。また、80V化成したTa_2N陽極酸化膜キャパシタの漏れ電流特性は、300℃の熱処理まではほとんど変化しないものの、350℃の熱処理によって急激な増加を示した。しかし、Ta_2N陽極酸化膜キャパシタは、酸化膜厚を薄くした場合でも、同程度の容量値が得られるTa陽極酸化膜キャパシタより耐熱性を大幅に改善できることがわかった。
1994-10-21

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