CPM2000-72 WOx薄膜の形成過程とその電気及び光学特性
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概要
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エレクトロクロミックディスプレイ(ECD)材料として知られている酸化タングステン(WOx)薄膜を反応性スパッタリング法で作製した。スパッタリングガス中の酸素流量比が、WOx薄膜の構造・化学結合状態、及び電気・光学特性へ及ぼす影響を検討した結果、酸素流量比30%程度以上で透過率80%以上のWO_3薄膜が形成された。また、酸素流量比による堆積速度の変化、及びプラズマ発光スペクトルの観測から、高酸素流量比(30%以上)ではWターゲットの表面で酸化が進行し、スパッタ過程は金属ターゲットモードから酸化物ターゲットモードに変わるという結果がえられた。
- 2000-08-17
著者
-
佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
-
川村 みどり
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
Abe Yoichi
Department Of Applied Science Tokyo Electrical Engineering College
-
Kamijyo Masahiro
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
-
川村 みどり
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
山本 明典
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
驚頭 永輔
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
川村 みどり
北見工業大学マテリアル工学科
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