Abe Yuji | Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
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概要
関連著者
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Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
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Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
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阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
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Abe Yoshio
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
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佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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Kamijyo Masahiro
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
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川村 みどり
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
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阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
著作論文
- C-6-3 化学量論的なTaN薄膜の(100)Si上での室温エピタキシャル成長(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
- Ta-Zr合金による陽極酸化膜キャパシタの電気的特性に及ぼす熱処理温度と酸化膜厚低減の影響
- C-6-8 Ta-Zr合金による熱的に安定な高誘電率陽極酸化膜キャパシタの作製
- Al_3Ta陽極酸化膜キャパシタの作製とその耐熱性
- CPM2000-90 NbドープSrTiO_3薄膜の膜質に及ぼすMgO基板表面処理とポストアニールの影響
- CPM2000-83 薄いZrN/Zr2層膜を介在させたAl/ZrN/Zr/Siコンタクト系の熱的安定性
- CPM2000-76 導電性RhO2薄膜の電気特性に及ぼす熱処理の影響
- CPM2000-72 WOx薄膜の形成過程とその電気及び光学特性
- Effects of Sputtering Parameters on the Formation of Single-Oriented (002) Ti Film on Si
- Difference in Thermal Degradation Behavior of ZrO_2 and HfO_2 Anodized Capacitors