新海 聡子 | 詫間電波高専

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概要

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• 詫間電波高専の論文著者

関連著者

• 佐々木 克孝

  北見工業大学工学部機能材料工学科

• 新海 聡子

  詫間電波高専

• 佐々木 克孝

  北見工業大学

• 佐々木 克孝

  Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology

• 阿部 良夫

  Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology

• 柳沢 英人

  北見工業大学工学部能材料工学科

• 阿部 良夫

  北見工業大学工学部能材料工学科

• 柳沢 英人

  北見工業大学

• Abe Yuji

  Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation

• Abe Y

  Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn

• 阿部 良夫

  北見工業大学マテリアル工学科

• 新海 聡子

  日本学術振興会特別研究員(PD)

• 新海 聡子

  北見工業大学 工学部 機能材料工学科

• Abe Yoichi

  Department Of Applied Science Tokyo Electrical Engineering College

• 川村 みどり

  北見工業大学工学部機能材料工学科

• Kamijyo Masahiro

  Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology

• 川村 みどり

  Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology

• 川村 みどり

  北見工業大学マテリアル工学科

• 三宅 秀和

  北見工業大学工学部能材料工学科

• 茶畑 嘉仁

  北見工業大学

• 北田 泰裕

  北見工業大学工学部機能材料工学科

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著作論文

• C-6-3 化学量論的なTaN薄膜の(100)Si上での室温エピタキシャル成長(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
• (III)Si上にエピタキシャル成長させた(III)HfN膜と(III)Cu/(III)HfN積層膜のAFM観察
• (111)Si上(111)Cu/(111)HfN2層膜の連続エピタキシャル成長と(111)HfN膜の拡張バリア特性
• CPM2000-83 薄いZrN/Zr2層膜を介在させたAl/ZrN/Zr/Siコンタクト系の熱的安定性
• CPM2000-82 (001)Si上(111)Cu/(111)HfN/(002)Hf三層膜の連続単配向成長に及ぼすHf膜厚の影響
• Alメタライゼーション系へのAl_3Hf/Hf積層膜の拡散バリヤとしての適用
• Al_3Hf金属間化合物膜の結晶化過程と電気的特性
• n-(001)Si上への単配向Hf膜の作製条件の検討
• (001)Siと(111)Si上へのAl/HfN積層膜の連続単配向成長条件の検討

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