阿部 良夫 | 北見工業大学工学部能材料工学科
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概要
関連著者
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阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
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阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
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Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
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Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
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阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
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佐々木 克孝
北見工業大学
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佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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柳沢 英人
北見工業大学工学部能材料工学科
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柳沢 英人
北見工業大学
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川村 みどり
北見工業大学工学部機能材料工学科
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Kamijyo Masahiro
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
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川村 みどり
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
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川村 みどり
北見工業大学マテリアル工学科
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Abe Yoichi
Department Of Applied Science Tokyo Electrical Engineering College
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山根 美佐雄
北見工業大学工学部機能材料工学科
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新海 聡子
詫間電波高専
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大石 直也
北見工業大学工学部機能材料工学科 : (現)大倉電気株式会社
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尾関 雅彦
松尾電機株式会社
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新海 聡子
北見工業大学 工学部 機能材料工学科
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渡辺 大輔
東京工業高等専門学校専攻科
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渡邊 大介
東京工業高等専門学校専攻科
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新海 聡子
日本学術振興会特別研究員(PD)
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後藤 智利
北見工業大学工学部機能材料工学科
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尾関 雅彦
北見工業大学
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野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
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三宅 秀和
北見工業大学工学部能材料工学科
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鈴木 崇司
北見工業大学工学部機能材料工学科
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田邉 彩
北見工業大学工学部機能材料工学科
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野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
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茶畑 嘉仁
北見工業大学
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渡邊 大介
北見工業大学工学部機能材料工学科
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渡辺 大輔
北見工業大学工学部機能材料工学科
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伊藤 ひろみ
北見工業大学工学部機能材料工学科
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北田 泰裕
北見工業大学工学部機能材料工学科
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稲田 晴久
北見工業大学工学部機能材料工学科
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加我 友紀直
北見工業大学工学部機能材料工学科
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加藤 清彦
北見工業大学工学部機能材料工学科
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山本 千晴
北見工業大学工学部機能材料工学科
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山本 明典
北見工業大学工学部機能材料工学科
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驚頭 永輔
北見工業大学工学部機能材料工学科
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稲田 晴久
北見工業大学工学部機能材料工学科:(現)富士通東北海道システムエンジニアリング
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野矢 厚
北見工業大学
著作論文
- C-6-3 化学量論的なTaN薄膜の(100)Si上での室温エピタキシャル成長(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
- Ta-Zr合金による陽極酸化膜キャパシタの電気的特性に及ぼす熱処理温度と酸化膜厚低減の影響
- C-6-8 Ta-Zr合金による熱的に安定な高誘電率陽極酸化膜キャパシタの作製
- Al_3Ta陽極酸化膜キャパシタの作製とその耐熱性
- CPM2000-90 NbドープSrTiO_3薄膜の膜質に及ぼすMgO基板表面処理とポストアニールの影響
- CPM2000-83 薄いZrN/Zr2層膜を介在させたAl/ZrN/Zr/Siコンタクト系の熱的安定性
- CPM2000-76 導電性RhO2薄膜の電気特性に及ぼす熱処理の影響
- CPM2000-72 WOx薄膜の形成過程とその電気及び光学特性
- 超高真空系で作製したMo/(100)Si系のシリサイド形成初期過程
- Alメタライゼーション系におけるAl_12Mo/Mo積層膜の拡散バリヤ効果
- (200)TiN高配向膜上への(111)Al高配向成長に及ぼすAl_3Ti中間介在層の影響
- 低化成電圧で作製したAl_3Hf陽極酸化膜キャパシタの熱劣化機構
- Al_3Hf金属間化合物の陽極酸化膜による高耐熱, 高信頼性薄膜キャパシタの検討
- Al_3Hf陽極酸化膜キャパシタの電気的特性と耐熱特性
- CPM2000-82 (001)Si上(111)Cu/(111)HfN/(002)Hf三層膜の連続単配向成長に及ぼすHf膜厚の影響
- Al_3Zr金属間化合物膜の陽極酸化とそれを応用した高信頼性薄膜キャパシタの作製
- Alメタライゼーション系へのAl_3Hf/Hf積層膜の拡散バリヤとしての適用
- Al_3Hf金属間化合物膜の結晶化過程と電気的特性
- n-(001)Si上への単配向Hf膜の作製条件の検討
- 反応性スパッタリング法によるRuO_2薄膜の作製とその電気特性
- Al-Si間におけるAl_3Zr/Zr積層膜の拡散バリヤ効果について