CPM2000-90 NbドープSrTiO_3薄膜の膜質に及ぼすMgO基板表面処理とポストアニールの影響
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概要
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RFマグネトロンスパッタ装置により低抵抗NbドープSrTiO_3(STO:Nb)薄膜を得るため、基板として用いた単結晶(100)MgOの表面処理方法について検討した。結果、リン酸を用いたウェット洗浄は基板表面に凹凸を生じ、その上に成膜したSTO:Nb薄膜の平坦性を低下させるが、真空及び酸素中で900°C、1時間熱処理するサーマルクリーニングを行うと、基板及びSTO:Nb薄膜の平滑性が保たれることがわかった。特に、酸素中で熱処理したMgO基板を用いた試料においては、低抵抗で結晶性の良いSTO:Nb膜が得られた。また、STO:Nb膜形成後のポストアニールの雰囲気を検討した結果、真空中熱処理した試料は抵抗率0.02Ωcmと低抵抗だが、酸素中熱処理した試料では高抵抗を示し、STO:Nb薄膜の電気特性には、酸素欠陥が大きく影響すると考えられる。
- 2000-08-18
著者
-
佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
-
鈴木 崇司
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
川村 みどり
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
Abe Yoichi
Department Of Applied Science Tokyo Electrical Engineering College
-
Kamijyo Masahiro
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
-
川村 みどり
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
川村 みどり
北見工業大学マテリアル工学科
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