Application of Al_3Hf/Hf Bilayered Film as a Diffusion Barrier to Al Metallization System of Si Large-Scale Integration
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概要
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We have attempted to improve the reliability of Al metallization system of Si-LSI, using Hf_3Si_2 silicide with the lowest contact resistivity. Al_3Hf/Hf bilayered films were interposed as a diffusion barrier between Al and Si in order to realize both preservation of the Al overlayer and sufficiently low contact resistivity at the Si interface. We have investigated the interfacial solid-phase reaction of the Al/Al_3Hf/Hf/Si contact system by means of X-ray diffraction, Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy analyses, and compared it with that of the Al/Hf/Si system. It is revealed that the Al/Al_3Hf/Hf/Si system is satisfactorily stable up to 420℃ at which the formation of the Hf_3Si_2 phase occurs at the Si interface.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1998-11-15
著者
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
笹木 敬司
北海道大学電子科学研究所
-
Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
ABE Yoshio
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
SASAKI Katsutaka
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
SHINKAI Satoko
Department of Materials Science, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology
-
Shinkai S
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
Shinkai Satoko
Research Fellow Of The Japan Society For The Promotion Of Science
-
Shinkai Satoko
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
Abe Yoshio
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
Sasaki Katsutaka
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Techn
-
Abe Yoshio
Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology, 165 Koen-cho, Kitami, Hokkaido 090-8507, Japan
-
Shinkai Satoko
Department of Control Engineering, Takuma National College of Technology, 551 Koda, Takuma-cho, Kagawa 769-1192, Japan
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