CPM2000-76 導電性RhO2薄膜の電気特性に及ぼす熱処理の影響
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概要
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白金族酸化物のRhO2薄膜を反応性スパッタリング法により作製した。スパッタリングガス中の酸素流量比が、RhOx薄膜の結晶構造・化学結合状態、および電気特性へ及ぼす影響を検討した結果、酸素流量比40%以上で、抵抗率約800μΩcmのRhO2薄膜が形成された。また、このRhO2薄膜の電気特性に及ぼす熱処理の効果を検討した結果、酸素中300℃以上の熱処理で粒径成長が始まり、600〜700℃では抵抗率80μΩcmの低抵抗RhO2薄膜が得られた。
- 2000-08-17
著者
-
佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
-
川村 みどり
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
Abe Yoichi
Department Of Applied Science Tokyo Electrical Engineering College
-
Kamijyo Masahiro
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
-
川村 みどり
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
加藤 清彦
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
山本 千晴
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
川村 みどり
北見工業大学マテリアル工学科
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