Preparation of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films by Reactive Sputtering Using O_2 + H_2O Mixed Gas
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2007-02-15
著者
-
佐々木 克孝
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
Sasaki K
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
ABE Yoshio
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
ITADANI Naruhiro
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
KAWAMURA Midori
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
SASAKI Katsutaka
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
-
ITOH Hidenobu
Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology
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