Al-Si間におけるAl_3Zr/Zr積層膜の拡散バリヤ効果について
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概要
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Alメタライゼーション技術の拡散バリヤとしてAl_3Zr/Zr積層膜を適用することの有用性を検討するため,Al/Al_3Zr/Zr/Si系に生じる界面固相反応の様子を調べた.その結果,中間にAl_3Zr層を介在させることはAl/Al_3ZrおよびAl_3Zr/Zrの両界面を平衡状態に近い状態に保つことを可能とし,AlとZr間の自発反応を十分に抑制できることがわかった.また,本系は470℃までの熱処理に耐え,しかもZr/Siの界面は450℃〜470℃までの熱処理によって,Zrシリサイドが部分的に形成された状態となることがわかった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-05-25
著者
-
阿部 良夫
Department Of Materials Science Kitami Institute Of Technology
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
柳沢 英人
北見工業大学工学部能材料工学科
-
阿部 良夫
北見工業大学工学部能材料工学科
-
野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
-
柳沢 英人
北見工業大学
-
Abe Yuji
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Abe Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
阿部 良夫
北見工業大学マテリアル工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学
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