Ta_2N陽極酸化膜による耐熱性に優れた薄膜キャパシタの作製
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概要
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Ta_2N化合物薄膜の陽極酸化膜を用いることにより,450℃まで特性の劣化しない耐熱性に優れた薄膜キャパシタを実現できた.このことは,Taと化学結合を形成している窒素原子が,酸素拡散に対してより有効な抑制効果を果たすことによるものと推察された.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-08-25
著者
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
関 光
北見工業大学工学部 電気電子工学科:(現)富士通
-
山根 美佐雄
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
白重 道弘
松尾電機株式会社
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学工学部
-
野矢 厚
北見工業大学
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