Al-Ti 合金薄膜表面酸化層のキャラクタリゼーション
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概要
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Al-Ti合金薄膜に形成される表面酸化層のキャラクタリゼーションについて合金組成比を変えて検討を行った。その結果、極めてAl-richな合金組成範囲においては、Alの選択酸化により形成された表面酸化層が保護性酸化膜として機能し、Tiをほとんど未酸化にすることが知られた。しかしながら、それ以外の合金組成範囲では、Alの選択酸化による保護性酸化層が十分に形成されるだけのAlカチオンの輸率が得られないために、表面からAlとTiの双方が酸化され、酸化は内部にまで及ぶことが知られた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-29
著者
-
武山 真弓
北見工業大学電気電子工学科
-
村上 佳隆
北見工業大学工学部電気電子工学科 : (現)東光株式会社
-
野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
-
御厨 貴信
北見工業大学 工学部 電気電子工学科
-
佐々木 克孝
北見工業大学
-
武山 真弓
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
野矢 厚
北見工業大学工学部
-
武山 真弓
北見工業大学工学部
-
武山 真弓
北見工業大学
-
野矢 厚
北見工業大学
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