梅沢 利二 | 札幌学院大学
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概要
関連著者
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梅沢 利二
札幌学院大学
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土橋 剛
旭川高専
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土橋 剛
旭川工業高等専門学校
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野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
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佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
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佐々木 克孝
北見工業大学
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野矢 厚
北見工業大学
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土橋 剛
旭川工業高等専門学校電気工学科
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野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
著作論文
- Al-Nb-N陽極酸化膜の誘電損失と下地金属界面層の化学量論性
- Ta-Al-N係膜による陽極酸化膜キャパシタの誘電特性とオ-ジェ電子分光分析
- Al陽極酸化膜キャパシタの誘電特性に及ぼす含有窒素の影響
- Nb-Ta-Nによる抵抗体薄膜および誘電体薄膜の電気的特性
- 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性
- 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの電気的特性
- A1/Ta/Hf多層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程
- Ta介在層によるAI/Hf2層陽極酸化膜キャパシタの特性改善
- Al-Ta2層陽極酸化膜キャパシタの誘電特性に及ぼす熱処理効果
- Hf陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
- オ-ジェ電子分光によるHf陽極酸化膜キャパシタの電気的特性に及ぼす熱処理効果の検討(技術談話室)
- AES及びXPS分光分析法による窒素チタンスパッタ膜のキャラクタリゼイション
- 窒素添加されたAl薄膜表面での酸化層の成長
- シリコンとAl3Ta膜とのコンタクト構造の安定性 (シリコンLSIの高性能化技術特集) -- (プロセス・結晶技術--プロセス)
- Al-Nb非晶質膜の電気的特性とキャラクタリゼ-ション