土橋 剛 | 旭川工業高等専門学校電気工学科
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概要
関連著者
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土橋 剛
旭川工業高等専門学校電気工学科
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土橋 剛
旭川高専
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土橋 剛
旭川工業高等専門学校
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土橋 剛
旭川工業高等専門学校電気情報工学科
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佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
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佐々木 克孝
北見工業大学
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野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
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梅沢 利二
札幌学院大学
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土橋 剛
旭川高専電気情報工学科
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野矢 厚
北見工業大学
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佐々木 克孝
北見工大
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本間 皓治
旭川工業高等専門学校
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中西 瞳
旭川高専電気情報工学科
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白沢 淳
旭川高専
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吉本 健一
旭川工業高等専門学校
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長野 伸彦
旭川高専
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野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
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鈴木 晋之介
旭川工業高等専門学校電気工学科
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三浦 仁嗣
旭川高専
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尾形 光
旭川高専電気情報工学科
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中西 瞳
旭川工業高等専門学校電気情報工学科
著作論文
- C-6-10 Ta/Hf積層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程の検討
- Nb/Hf 2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
- C-6-7 Nb/Hf2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
- C-6-5 Ta/Hf積層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
- バルブ金属(Hf,Zr,Nb,Ta)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象の検討
- C-6-5 Nb拡散によるTa、Ti陽極酸化膜の伝導度制御の検討(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- C-6-10 2層陽極酸化膜の損失特性と拡散現象の検討(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- バルブ金属(Hf,Zr,Nb)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象
- 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性
- A1/Ta/Hf多層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程
- Ta介在層によるAI/Hf2層陽極酸化膜キャパシタの特性改善
- Hf-Al 多層誘電体薄膜キャパシタの電気的特性
- Al-Ta二層陽極酸化膜のStoichiometry と電気的特性
- 二層誘電体薄膜キャパシタの電気的特性
- ミニ・コンピュータとマイクロ・コンピュータの結合
- ミニ・コンピューターによるマイクロ・コンピュータのシミュレータ
- C-6-6 Ti/Hf/Nb積層膜の陽極酸化によるTi酸化膜の伝導度制御(C-6.電子部品・材料,一般セッション)