C-6-3 HM-CVD 法を用いた炭化ケイ素膜の作製
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-09-10
著者
-
成田 克
山形大学工学部
-
赤羽 正志
長岡技術科学大学
-
安井 寛治
長岡技術科学大学
-
成田 克
長岡技術科学大学
-
江藤 淳平
長岡技術科学大学工学部電気系
-
江藤 淳平
長岡技術科学大学電気系
-
成田 克
山形大学
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