触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み(材料デバイスサマーミーティング)
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概要
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白金ナノ粒子表面での水素と酸素の自己発熱反応を利用して高エネルギーH_2Oを生成、アルキル亜鉛ガスと反応させ形成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給、ガラス基板上にZnO結晶膜を成長させた。サファイア基板上への成長膜とは異なりガラス基板上への直接成長では結晶配向性、表面モフォロジーそしてホール移動度が大きく悪化したため、バッファー層の挿入により特性が改善出来ないか調べた。その結果、同じCVD法により低温バッファー層を挿入することでホール移動度の増大が見られ、この増大とバンド端の揺らぎを示す経験的パラメータE_0との間に明確な相関が見られた。
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2013-06-14
著者
-
安井 寛治
長岡技術科学大学
-
大石 耕一郎
長岡工業高等専門学校
-
加藤 孝弘
長岡技術科学大学
-
小柳 貴寛
長岡技術科学大学
-
片桐 裕則
長岡工業高専
-
神保 和夫
長岡工業高専
-
竹澤 和樹
長岡技術科学大学
-
中村 友紀
長岡技術科学大学
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