竹澤 和樹 | 長岡技術科学大学

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概要

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• 竹澤 和樹

  長岡技術科学大学

• 安井 寛治

  長岡技術科学大学

• 片桐 裕則

  長岡工業高専

• 神保 和夫

  長岡工業高専

• 大石 耕一郎

  長岡工業高等専門学校

• 加藤 孝弘

  長岡技術科学大学

• 小柳 貴寛

  長岡技術科学大学

• 安井 寛治

  長岡技科大

• 中村 友紀

  長岡技術科学大学

• 神保 和夫

  長岡工業高等専門学校

• 加藤 孝弘

  長岡技科大

• 竹澤 和樹

  長岡技科大

• 小柳 貴寛

  長岡技科大

• 片桐 裕則

  長岡工業高等専門学校

• 安井 寛治

  長岡技科大工

• 里本 宗一

  長岡技科大工

• 里本 宗一

  長岡技科大

• 玉山 泰宏

  長岡技術科学大学

• 西山 智哉

  長岡技術科学大学

• 三宅 祐介

  長岡技術科学大学

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著作論文

• C-6-12 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて成長したガラス基板上ZnO膜へのスパッタ下地層挿入効果(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
• 触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み (機構デバイス)
• 触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み (電子部品・材料)
• 触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み (有機エレクトロニクス)
• 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜へのCVD低温バッファー層挿入効果(薄膜プロセス・材料,一般)
• C-6-2 高エネルギーH20を用いてスパッタバッファー層上に成長したZnO膜の特性(C-6.電子部品・材料)
• 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み(材料デバイスサマーミーティング)
• 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み(材料デバイスサマーミーティング)
• 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み(材料デバイスサマーミーティング)
• C-6-6 減圧MOCVD法によりr面サファイア基板上に成長した非極性GaN膜の特性(C-6.電子部品・材料,一般セッション)

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