若原 昭浩 | 豊橋技術科学大学
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概要
関連著者
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若原 昭浩
豊橋技術科学大学
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若原 昭浩
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学
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岡田 浩
豊橋技術科学大学
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若原 昭浩
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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吉田 明
豊橋技科大
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吉田 明
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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吉田 明
豊橋技術科学大学工学部
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吉田 明
神奈川県立がんセンター乳腺甲状腺外科:甲状腺未分化癌コンソーシアム
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古川 雄三
豊橋技術科学大学 工学研究科
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古川 雄三
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学
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古川 雄三
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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関口 寛人
上智大理工:crest-jst
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米津 宏雄
豊橋技術科学大学 工学研究科
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大島 武
日本原子力研究開発機構
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大島 武
原子力研究開発機構
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米津 宏雄
Department Of Electrical And Electronic Information Engineering Toyohashi University Of Technology
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米澤 宏雄
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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浦上 法之
豊橋技術科学大学
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伊藤 久義
日本原子力研究所高崎研究所
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伊藤 久義
日本原子力研究所 高崎研究所 材料開発部
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伊藤 久義
原研
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大島 武
原研
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石田 誠
豊橋技術科学大学
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関口 寛人
上智大理工:jst-crest
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石田 誠
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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梅野 和行
豊橋技術科学大学
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高木 康文
浜松ホトニクス株式会社
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藤田 尚樹
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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李 海錫
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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山根 啓輔
豊橋技術科学大学電気・電子工学課程
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李 海錫
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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Ishida M
Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn
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藤田 尚樹
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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伊藤 久義
原子力機構
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中西 康夫
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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伊藤 幹記
豊橋技術科学大学
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畠中 奨
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
中西 康夫
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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松田 豊稔
熊本高専
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中村 隆
釧路工業高等専門学校
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大津 道歳
熊本大学
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藤盛 敬雄
豊橋技術科学大学
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奥野 洋一
熊本大学大学院自然科学研究科
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周山 大慶
熊本大学大学院自然科学研究科
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田中 徹
豊橋技術科学大学 工学部
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松田 豊稔
熊本電波工業高等専門学校
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中村 隆
釧路工高専
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田中 徹
(株)富士通研究所シリコンテクノロジ研究所
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廣江 吉倫
豊橋技術科学大学
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光吉 三郎
豊橋技術科学大学
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奥野 洋一
熊本大学
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周山 大慶
熊本大学
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園田 潤
仙台電波工業高等専門学校電子工学科
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今井 恒
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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海野 啓明
仙台高等専門学校情報システム工学科
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田中 誠造
豊橋技術科学大学電気・電子工学課程
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野口 健太
豊橋技術科学大学電気・電子工学課程
-
出口 裕輝
豊橋技術科学大学電気・電子工学課程
-
河野 達矢
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
今井 恒
豊橋技術科学大学
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海野 啓明
仙台高等専門学校
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佐藤 淳
豊橋技術科学大学 工学部
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島田 英里
豊橋技術科学大学 工学部
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箕原 大介
豊橋技術科学大学 工学部
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文 秀榮
豊橋技術科学大学
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金 聖晩
豊橋技術科学大学
-
太田 成人
豊橋技術科学大学
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森崎 祐二
豊橋技術科学大学
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石地 正義
豊橋技術科学大学
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佐藤 真一郎
日本原子力研究開発機構
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田中 光浩
日本ガイシ株式会社研究開発本部
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佐藤 源之
東北大学東北アジア研究センター
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滝川 浩史
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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大西 正人
豊橋技術科学大学
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大嶋 武
原研高崎
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井上 勉
豊橋技術科学大学
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岡田 漱平
日本原子力研究所・高崎
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岡田 漱平
日本原子力研究所
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細川 修
豊橋技術科学大学
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早川 崇則
豊橋技術科学大学
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吉越 章隆
豊橋技術科学大学
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伊藤 真也
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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重久 慶
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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三崎 貴生
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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津間 博基
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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小林 貴行
豊橋技術科学大学
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藤村 洋平
豊橋技術科学大学
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夏目 諭
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
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柴田 智彦
日本ガイシ
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佐藤 源之
東北大学 東北アジア研究センター
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小幡 常啓
群馬工業高等専門学校
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滝川 浩史
豊橋技術科学大学
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内田 実
豊橋技術科学大学電気電子工学系
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李 昌勇
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学系
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松野 文弥
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学系
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橋元 芳昇
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学系
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近藤 正樹
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学
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秦 貴幸
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学
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山本 鉄隆
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
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藤村 洋平
双葉電子工業
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山口 利幸
和歌山高専
-
田中 光浩
日本ガイシ
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Wu Xiaoping
豊橋技術科学大学
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北村 泰弘
豊橋技術科学大学工学部
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山口 利幸
和歌山工業高等専門学校電気工学科
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柴田 智彦
日本ガイシ株式会社
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嶋田 香志
豊橋技術科学大学
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佐藤 源之
東北大学
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野間 亮佑
豊橋技術科学大学
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泉 佳太
豊橋技術科学大学工学部
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河合 洋明
豊橋技術科学大学工学部
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下條 貴史
豊橋技術科学大学工学部
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斎木 久雄
(株)三陽電機製作所
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玄番 潤
豊橋技術科学大学
-
内海 一肇
豊橋技術科学大学
-
Ishida M
Institute Of Applied Physics Crest Japan Science And Technology Corporation University Of Tsukuba
-
山本 鉄隆
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
松本 鋭介
豊橋技術科学大学電気電子工学系
-
伊藤 真也
豊橋技術科学大学 機械工学系
-
ベイ インホ
韓国嶺南大学校
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土屋 健司
豊橋技術科学大学
-
海江田 理
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
内田 美
豊橋技術科学大学電気電子工学系
-
川村 延伸
豊橋技術科学大学電気電子工学系
-
大石 浩司
豊橋技術科学大学電気電子工学系
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ナッタウット ブッタラート
豊橋技術科学大学
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園田 潤
仙台高等専門学校
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近藤 正樹
豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学
-
李 昌勇
豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学系
-
秦 貴幸
豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学
-
丹治 紀彦
仙台高等専門学校
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山口 利幸
和歌山工業高等専門学校
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夏目 諭
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
河合 剛
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学専攻
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佐々木 伸一
佐賀大学理工学部
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佐藤 賢次
日鉱マテリアルズ(株)
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鈴木 篤
豊橋技術科学大学電気電子工学部
-
李 禹鎮
豊橋技術科学大学電気電子工学部
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本川 和之
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
中村 正志
日鉱マテリアルズ 戸田工場
-
佐々木 伸一
日鉱マテリアルズ 戸田工場
-
清水 英一
日鉱マテリアルズ 戸田工場
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朝日 聰明
日鉱マテリアルズ 戸田工場
-
田中 亮太
豊橋技術科学大学
-
石川 風生
仙台電波工業高等専門学校
-
本川 和之
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
佐藤 賢次
(株)日鉱マテリアルズ戸田工場
-
朝日 聰明
(株)日鉱マテリアルズ戸田工場
-
ブッタラート ナッタウット
豊橋技術科学大学
-
アラン ビール
豊橋技術科学大学
-
若原 昭浩
豊橋技術科学大学電気・電子情報工学系
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
-
野中 薫雄
琉球大学医学部器官病態医科学講座皮膚科
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澤田 和明
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
市川 周一
豊橋技術科学大学・知識情報工学系
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北崎 充晃
豊橋技術科学大学
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桂田 浩一
豊橋技科大
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桂田 浩一
豊橋技術科学大学 大学院工学研究科 知識情報工学専攻
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園田 潤
仙台高等専門学校知能エレクトロニクス工学科
-
朴 康司
豊橋技術科学大学第3工学系
-
青木 伸一
豊橋技術科学大学
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海野 啓明
仙台電波工業高等専門学校電子制御工学科
-
横山 安弘
釧路工業高等専門学 校
-
藤本 晶
和歌山工業高等専門学校
-
澤田 和明
豊橋技術科学大学
-
高尾 英邦
豊橋技術科学大学
-
藤盛 敏雄
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
橋詰 保
北海道職業訓練短期大学電気工学科
-
海野 啓明
仙台電波高専
-
中内 茂樹
豊橋技術科学大学
-
横山 安弘
釧路工業高等専門学校電子工学科
-
林 直樹
東北大学大学院環境科学研究科
-
小幡 常啓
群馬高専
-
関 洋二
ジャパンエナジー
-
西野 元一
長岡技術科学大学
-
桂田 浩一
豊橋技術科学大学
-
新田 恒雄
豊橋技術科学大学
-
橋詰 保
釧路工業高等専門学校
-
神野 清勝
豊橋技術科学大学
-
甲斐荘 敬司
ジャパンエナジー精製技術センター
-
Sawada K
Shizuoka Univ. Hamamatsu
-
渡辺 俊裕
日本通信工業
-
古田 明
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
有田 誠
豊橋技術科学大学電気電子工学系
-
園田 潤
仙台電波高専電子工学科
-
若原 昭浩
豊技大
-
吉田 明
豊技大
-
小田 修
ジャパンエナジー
-
甲斐荘 敬司
日鉱マテリアルズ
-
石川 風生
仙台電波高専
-
林 直樹
東北大学東北アジア研究センター
-
北崎 充晃
豊橋技術科学大学情報・知能工学系
-
シン アルン
豊橋技術科学大学
-
ビール シン
豊橋技術科学大学
-
中内 茂樹
豊橋技科大 情報工学系
-
青野 雅樹
豊橋技術科学大学情報・知能工学系
-
岡田 浩
豊橋技術科学大学エレクトロニクス先端融合研究所
-
藤本 晶
和歌山工業高等専門学校電気情報工学科
-
市川 周一
豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学系
-
青野 雅樹
豊橋技術科学大学 情報・知能工学系
著作論文
- 自己形成InGaAsN/GaPN量子ドットの成長と発光特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Si/3-V-N/Si構造を用いたLEDインジケータ付き1ビットカウンタ回路の製作 (電子部品・材料)
- Si/3-V-N/Si構造を用いたLEDインジケータ付き1ビットカウンタ回路の製作 (電子デバイス)
- 真空紫外光励起による半導体表面光化学反応の基礎研究
- ZnGeN_2エピタキシャル薄膜の光学的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- モノメチルシランを用いたAlGaNの伝導性制御に関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- カーボンナノチューブの基板面内方向における位置制御形成の検討(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- CuInSe_2薄膜の放射線照射損傷とアニール効果の検討(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- カーボンナノチューブの基板面内方向における位置制御形成の検討(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
- CuInSe_2薄膜の放射線照射損傷とアニール効果の検討(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
- AlInN混晶の成長と光学特性の評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- ナノ粒子ZnOを用いた色素増感太陽電池の作製と評価
- GaNに添加したEu発光の耐放射線性と耐放射環境用発光デバイス応用の可能性
- HVPE法によるNGO基板上のGaN厚膜基板の成長 : 半導体レーザ用GaN基板の開発(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- HVPE法によるNGO基板上のGaN厚膜基板の成長 : 半導体レーザ用GaN基板の開発(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状、及び一般)
- Siに格子整合可能なGaPNの電気的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Siに格子整合可能なGaPNの電気的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Siに格子整合可能なGaPNの電気的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Siに格子整合可能なGaPNの電気的特性
- ZnGeN_2エピタキシャル薄膜の光学的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- ZnGeN_2エピタキシャル薄膜の光学的特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- インテリジェントUVセンサのためのGaN系フォトダイオードと電荷転送型Si信号処理回路の一体化(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- インテリジェントUVセンサのためのGaN系フォトダイオードと電荷転送型Si信号処理回路の一体化(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- インテリジェントUVセンサのためのGaN系フォトダイオードと電荷転送型Si信号処理回路の一体化(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Si/III-V-N/Si構造を用いたLEDインジケータ付き1ビットカウンタ回路の製作(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Si/III-V-N/Si構造を用いたLEDインジケータ付き1ビットカウンタ回路の製作(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Eu添加AlGaN/GaN HEMT構造を用いた発光素子の検討(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Eu添加AlGaN/GaN HEMT構造を用いた発光素子の検討(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Eu添加AlGaN/GaN HEMT構造を用いた発光素子の検討(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- GaNに添加したEu発光の耐放射線性と耐放射環境用発光デバイス応用の可能性
- 単結晶CuInSe_2薄膜の電子線照射欠陥の評価(III族窒化物研究の最前線)
- 単結晶CuInSe_2薄膜の電子線照射欠陥の評価(III族窒化物研究の最前線)
- 単結晶CuInSe_2薄膜の電子線照射欠陥の評価(III族窒化物研究の最前線)
- Tbをイオン注入したGaNの発光特性(III族窒化物研究の最前線)
- Tbをイオン注入したGaNの発光特性(III族窒化物研究の最前線)
- Tbをイオン注入したGaNの発光特性(III族窒化物研究の最前線)
- Euをイオン注入したGaNの発光特性
- Euをイオン注入したGaNの発光特性
- Euをイオン注入したGaNの発光特性
- CuInSe_2薄膜のイオン注入による不純物導入効果
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたMOSFETおよびLEDの作製(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたMOSFETおよびLEDの作製(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたMOSFETおよびLEDの作製(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- 多層膜金属格子に励起される表面プラズモン
- 多層膜金属格子に励起される表面プラズモン(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 多層膜金属格子に励起される表面プラズモン(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 多層膜金属格子に励起される表面プラズモン(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 多層膜金属格子に励起される表面プラズモン(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- 多層膜周期構造による光の共鳴散乱
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- Si-GaN OEICをめざしたGaNヘテロエピタキシーに関する研究
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- γ-Al_2O_3/Si(111)基板上へのGaNヘテロエピタキシャル成長に関する研究(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたInGaPN/GaPN量子井戸構造(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたInGaPN/GaPN量子井戸構造(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたInGaPN/GaPN量子井戸構造(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたInGaPN/GaPN量子井戸構造
- CuInSe_2薄膜のイオン注入による不純物導入効果
- CuInSe_2薄膜のイオン注入による不純物導入効果
- アルカリ金属添加CuIuSe_2薄膜の構造と光学的特性
- アルカリ金属添加CuInSe_2薄膜の構造と光学的特性
- アルカリ金属添加CuInSe_2薄膜の構造と光学的特性
- AlInN混晶の成長と光学特性の評価(結晶成長評価およびデバイス(化合物, Si, SiGe, その他の電子材料))
- Eu添加AlGaNの光学利得の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Eu添加AlGaNの光学利得の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Eu添加AlGaNの光学利得の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 同期検波による自動C-V Plotter
- AlInN混晶の成長と光学特性の評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- FDTD法を用いた周期的フラクタル状多層媒質の電磁波伝搬解析
- A1_2O_3(11-20)基板上へのInNへテロエピタキシャル成長
- 真空紫外光励起による半導体表面光化学反応の基礎研究
- Al_2O_3(11-20)基板上へのInNヘテロエピタキシャル成長
- 真空紫外光励起による半導体表面光化学反応の基礎研究
- Al_2O_3(11-20)基板上へのInNヘテロエピタキシャル成長
- NdGaO_3基板上へのGaNハイドライド気相エピタキシー : バルク成長シンポジウム
- Si/III-V-N/Si構造を用いたLEDインジケータ付き1ビットカウンタ回路の製作(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- p-GaPNの発光機構と変調ドープGaAsN/GaPN高歪量子井戸への応用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 自己形成InGaAsN/GaPN量子ドットの成長と発光特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- p-GaPNの発光機構と変調ドープGaAsN/GaPN高歪量子井戸への応用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- p-GaPNの発光機構と変調ドープGaAsN/GaPN高歪量子井戸への応用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 自己形成InGaAsN/GaPN量子ドットの成長と発光特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 光伝導度過渡応答特性を用いたGaPNの深い準位の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 光伝導度過渡応答特性を用いたGaPNの深い準位の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 光伝導度過渡応答特性を用いたGaPNの深い準位の評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 9-209 高専-枝科大連携による技能を持った技術者の育成 : 高専専攻科と技科大の融合による一貫教育の実現へ((22)高大院連携,口頭発表論文)
- モノメチルシランを用いたAlGaNの伝導性制御に関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- モノメチルシランを用いたAlGaNの伝導性制御に関する研究(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- カーボンナノチューブの基板面内方向における位置制御形成の検討(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- CuInSe_2薄膜の放射線照射損傷とアニール効果の検討(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- ナノ粒子ZnOを用いた色素増感太陽電池の作製と評価
- フラクタル状多層薄膜の作製と電磁波の伝搬特性
- Si/III-V-N光電子集積回路に向けたMOSFETおよびLEDの作製
- シンクロトロン放射光を用いたテフロン薄膜の作製と評価
- シンクロトロン放射光を用いたテフロン薄膜の作製と評価
- CS-5-3 Si基板上への無転位III-V-N混晶層のヘテロエピタキシャル成長(CS-5.異種材料融合デバイス技術,シンポジウム)
- 03aB06 III-V-N混晶-シリコン構造を用いたモノリシック光電子融合システムの開発(光・電子集積回路(OEIC)時代をひらく結晶成長技術,ナノ・エピ分科会シンポジウム,第36回結晶成長国内会議)
- リモートプラズマプロセスによるSi低温エピタキシャル成長
- リモートプラズマプロセスによるSi低温エピタキシャル成長
- リモートプラズマプロセスによるSi低温エピタキシャル成長
- シンクロトロン放射光を用いたテフロン薄膜の作製と評価
- エピタキシャルAl_2O_3を中間層に用いたSi基板上へのGaN有機金属気相エピタキシャル成長
- CuInSe_2薄膜の電子線照射効果の検討
- エピタキシャルAl_2O_3を中間層に用いたSi基板上へのGaN有機金属気相エピタキシャル成長
- CuInSe_2薄膜の電子線照射効果の検討
- エピタキシャルAl_2O_3を中間層に用いたSi基板上へのGaN有機金属気相エピタキシャル成長
- CuInSe_2薄膜の電子線照射効果の検討
- 格子歪をうけたβ-FeSi_2のバンド構造の理論的検討
- ZnO薄膜の伝導型制御
- 格子歪をうけたβ-FeSi_2のバンド構造の理論的検討
- ZnO薄膜の伝導型制御
- ZnO薄膜の伝導型制御
- レーザーアブレーション法によるZnO薄膜の作製
- レーザーアブレーション法によるZnO薄膜の作製
- レーザーアブレーション法によるZnO薄膜の作製
- B-1-35 フラクタル構造における電磁波透過・共振現象のマイクロ波実験による検討(B-1.アンテナ・伝播A(電波伝搬,非通信利用),一般セッション)
- CI-3-5 格子整合系GaNP/Si発光デバイスを用いた光・電子集積(CI-3.シリコンフォトニクスに関わるアクティブデバイス,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)
- CS-9-1 スマートクラスルーム : インテリジェントヒューマンセンシングによる(CS-9. センサネット: エレクトロニクスと情報技術の融合, エレクトロニクス2)
- カントール構造中の電磁波伝搬における分割幅による透過・共振の制御(EMC,一般)
- フラクタル構造における電磁波透過特性の実験的検証
- 高温環境下で動作するCOガスセンサに向けたPt/GaNショットキバリアダイオードの評価(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- BGaPの分子線エピタキシー成長(MBE,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- Si基板上光閉じ込め構造に向けたAlGaPN混晶の分子線エピタキシー成長(MBE,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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- GaN:EuへのMg共ドーピングによる発光特性への影響(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,関連技術,及び一般)
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- GaN:EuへのMg共ドーピングによる発光特性への影響
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- Si基板上無転位発光素子構造の実現に向けたn型およびp型AlGaPN混晶の電気的特性の評価(Siウェハ上結晶成長・評価・デバイス応用,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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- 高温成長によるGaAsN混晶の結晶性向上(Siウェハ上結晶成長・評価・デバイス応用,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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- GaN:EuへのMg共ドーピングによる発光特性への影響
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- 表面窒化によるGaAsN混晶の形成(結晶成長、評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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