エキシマレーザアニーリング時におけるディスク形状多結晶Si粒の形成(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
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概要
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アモルファス(amorphous, a-)Siのエキシマレーザアニーリング(excimer laser annealing, ELA)により作製された多結晶Si薄膜において観察される,円形ディスク形状多結晶Si粒の表面形状と結晶性が走査型電子顕微鏡(scanning electron microscopy,SEM),原子間力顕微鏡(atomic force microscopy,AFM),及び,X線回折法(X-ray diffraction method,XRD),ラマン散乱分光法(Raman spectroscopy)により調査された.円形ディスク形状多結晶Si粒とその周囲の結晶粒の境界には段差があったが,境界より内部領域は平たんであった.また,レーザエネルギー密度が200〜400mJ/cm^2の範囲では,XRD強度のレーザエネルギー密度に対する傾向はラマン強度のエネルギー密度に対する傾向と同じであった.これらの実験結果をもとに,一部提案されているディスク形状多結晶Siの形成機構との整合性が議論される.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-07-25
著者
-
浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
-
河本 直哉
山口大学工学部電気電子工学科
-
松尾 直人
山口大学工学部
-
松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
河本 直哉
山口大学大学院理工学研究科
-
宮井 良雄
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
-
田口 亮平
山口大学工学部
-
納田 朋幸
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
-
納田 朋幸
三洋電機
-
河本 直哉
山口大 工
-
松尾 直人
山口大
-
河本 直哉
山口大学工学部
-
松尾 直人
兵庫県大
-
浜田 弘喜
三洋電機株式会社 先進太陽光発電開発センター
-
田口 亮平
山口大学工学部電気電子工学科
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