ELA法により形成したpoly-Si薄膜の回復・再結晶を考慮した成長モデル : 転移論に基づいて
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概要
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エキシマレーザの多パルス照射による多結晶Siの成長モデルに関してはこれまで過冷却融液からの固体化により説明されているが、パルス数を増やすに従い結晶性が良くなるという現象はこのモデルで説明できない。ELApoly-Siの結晶成長機構に関し回復・再結晶の立場から調査を行った処、点欠陥等が消滅する回復過程、subgrain coalescence及び、粒界移動に関係する1次・2次再結晶過程に対応する現象が観測された。その結果は理論と整合性がよいことを確認し、大粒径化を実現する議論も行なう。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-04-14
著者
-
浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
-
松尾 直人
山口大学工学部
-
松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
浜田 弘喜
三洋電機(株)デジタルシステム研究所
-
松尾 直人
兵庫県立大学工学研究科
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