低温Poly-Si TFTを用いたアクティブマトリックス型有機ELディスプレイ
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
低温Poly-si TFTを用いたアクティブマトリックス型有機ELディスプレイは、自発光型のフラットパネルディスプレイの多くの特長により、次世代ディスプレイとして期待されている。ここでは、この有機ELディスプレイ技術の現状について述べると共に、三洋電機とコダック社で共同開発した2.4インチおよび5.5インチのアクティブマトリックス型有機肌ディスプレイの技術について紹介する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-04-09
著者
-
柴田 賢一
三洋電機(株)研究開発本部アドバンストエナジー研究所
-
柴田 賢一
三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所
-
柴田 賢一
三洋電機株式会社 ニューマテリアル研究所
-
浜田 弘喜
三洋電機株式会社フロンティアデバイス研究所
-
土屋 博
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
-
柴田 賢一
三洋電機株式会社・機能材料研究所
-
浜田 弘喜
三洋電機株式会社 先進太陽光発電開発センター
関連論文
- LiTaO_3とLiNbO_3のの第2漏洩弾性表面波を用いた1.9GHz帯SAWデバイス
- OC4 LiTiO_3上の第2漏洩弾性表面波を用いた1.9GHz帯SAWデバイス(超音波デバイス)
- PB-13 AlN薄膜を用いた高周波SAWデバイス(P.ポスターセッションB-概要講演・展示)
- 細線配列格子における双極子定在波
- エキシマレーザアニーリングにより形成された多結晶シリコンの成長様式 : グレーン形状と水素の関係についての検討(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- ELA法によるポリシリコンの結晶成長について : 核形成と水素の関係
- 多結晶Si薄膜トランジスタの高性能化と高精細LCDライトバルブへの応用
- ELAポリシリコン薄膜の大粒径化 : 結晶成長と水素の関係(シリコン関連材料の作製と評価)
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- nチャネル縦型有機トランジスタの作製及び特性評価(有機材料,一般)
- CI-1-7 有機発光体・導電体の目指す低消費電力化(CI-1.環境・エネルギー問題の解決に貢献する有機材料〜有機エレクトロニクスからの提案,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
- ヒドロキシフラボン金属錯体を用いた有機EL素子
- ユーロピウム錯体をドープした有機EL素子の評価
- ベンゾチアゾール錯体を用いた有機EL素子
- ベンゾチアゾール系錯体を用いた有機EL素子
- 有機EL用材料としてのピラゾリン誘導体の評価
- 色素をドープした有機EL素子における高効率化と長寿命化
- 有機EL用材料としてのアゾメチン亜鉛錯体の評価 : 表示記録用有機材料・デバイス関連 : 情報ディスプレイ
- 有機エレクトロルミネッセンス材料としてのアゾメチン亜鉛錯体の評価
- エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
- チャネル形成領域両端に極薄誘電体膜をもつ新たなTFTの提案と理論検討(半導体材料・デバイス)
- シリコン共鳴トンネリングMOSトランジスタ : サブ0.1μm世代を見据えて
- C-11-10 Si共鳴MOSトランジスタ(SRTMOST)の提案
- ELA法により形成したpoly-Si薄膜の回復・再結晶を考慮した成長モデル : 転位論に基づいて
- 有機EL編 新材料とディスプレイに挑む (特集 21世紀の表示技術を競う ディスプレイ革命、一直線(1))
- 3-1G05 Li_2O-CaO-SrO-(12-x)Sm_2O_3-xLn_2O_3-TiO_2 系セラミックスのマイクロ波誘電特性 : (Ln : ランタノイド系レアアース)
- 多パルス照射エキシマレーザアニーリングにより形成したシリコン薄膜
- エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
- エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
- SPC、ELA連続処理により形成された多結晶シリコンの結晶成長(半導体Si及び関連材料・評価)
- エキシマ・レーザ・アニールによる多結晶シリコンの結晶成長 : 水素と基板熱伝導度が臨界エネルギー密度に与える影響を考慮して
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動 : 下地SiN基板の水素分子濃度と結晶成長の関係(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製 : 両面核生成の効果(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- エキシマ・レーザ・アニールによる多結晶シリコンの結晶成長 : 水素と基板熱伝導度が臨界エネルギー密度に与える影響を考慮して
- エキシマレーザアニーリング時におけるディスク形状多結晶Si粒の形成(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- エキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化多結晶シリコンの応力緩和
- エキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化多結晶シリコンの応力緩和
- ELA法によりSiO_2/SiN/glass基板上に形成されたpoly-Si薄膜の結晶成長と水素の関係
- 電気・電子産業分野
- ヒドロキシフラボン金属錯体を用いた有機EL素子
- ユーロピウム錯体をドープした有機EL素子の評価
- ユーロピウム錯体をドープした有機EL素子の評価
- ユーロピウム錯体をドープした有機EL素子の評価
- 色素をドープした有機EL素子における高効率化と長寿命化
- 色素をドープした有機EL素子における高効率化と長寿命化
- Co/Cu波形人工格子
- Cuアイランド上に形成したCoFe/IrMnスピンバルブ
- 細線配列格子における双極子定在波
- 溶液系エレクトロケミルミネッセント素子の高輝度化(有機分子エレクトロニクスの現状と将来展望論文小特集)
- ルブレンを発光材料に用いた溶液系ECL素子の高輝度化 : イオン伝導補助ドーパントを用いたキャリア輸送向上の検討(表示記録用有機材料およびデバイス)
- ルブレンを発光材料に用いた溶液系ECL素子の高輝度化 : イオン伝導補助ドーパントを用いたキャリア輸送向上の検討
- ルブレンを発光材料に用いた溶液系ECL素子の高輝度化 : イオン伝導補助ドーパントを用いたキャリア輸送向上の検討
- 溶液系エレクトロケミルミネッセント(SECL)素子の高輝度化
- エキシマ・レーザ・アニールにより形成された低温プロセス多結晶Siのキャラクタリゼーション
- エキシマ・レーザ・アニールにより形成した低温プロセス多結晶Si成長モデル : 転位論に基ずく検討
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタの特性計算 : 相互コンダクタンスとサブスレッショルド係数
- Si共鳴トンネルMOSトランジスタの理論的研究
- Si共鳴トンネルMOSトランジスタの理論的研究
- 極薄誘電体膜トンネル現象のMOSトランジスタへの応用
- 極薄誘電体膜トンネル現象のMOSトランジスタへの応用
- ELA法によりSiO_2/SiN/glass基板上に形成されたpoly-si薄膜の結晶成長と水素の関係
- ELA法により,SiO_2 / SiN / glass基板上に形成されたpoly-Si薄膜の結晶成長と水素の関係
- C-11-1 Si共鳴トンネリングMOSトランジスタ(SRTMOST)の検討 : 論理回路への応用
- a-Siのエキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化poly-Siの検討 : 薄膜中に含有された水素を考慮して
- a-Siのエキシマ・レーザ・アニーリングにより形成された再結晶化poly-Siの検討 : 薄膜中に含有された水素を考慮して
- SiN薄膜上に形成されたエキシマ・レーザ・アニール法によるpoly-Si薄膜の結晶性
- SiN薄膜上に形成されたエキシマ・レーザ・アニール法によるpoly-Si薄膜の結晶性
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタ(SRTMOST)のダブルバリヤ/Si界面障壁高さに関する考察 : ゲート長との関係
- エキシマ・レーザ・アニール法により形成されたpoly-Si 薄膜結晶成長の遷移領域に関する検討
- エキシマ・レーザ・アニール法により形成されたpoly-Si薄膜結晶成長の遷移領域に関する検討
- エキシマ・レーザー・アニーリングにより形成された低温プロセスPoly-Si膜の結晶成長 : Poly-Siグレインのエネルギー密度、ショット数への依存性
- エキシマ・レーザー・アニーリングにより形成された低温プロセスPoly-Si膜の結晶成長-Poly-Siグレインのエネルギー密度、ショット数への依存性-
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜のグレインの変化
- ELA法により形成されたpoly-Si薄膜のグレインの変化
- ELA法により形成したpoly-Si薄膜の回復・再結晶を考慮した成長モデル : 転移論に基づいて
- エキシマ・レーザー・アニールにより形成した低温多結晶Siのキャラクタリゼイション
- 多結晶Si薄膜の結晶欠陥と結晶粒径の関係
- PC21 ECRイオンビームスパッタ法によるAIN薄膜の作製とGHz帯SAWデバイスの応用(ポスタセッションC-概要講演・展示)
- 有機ELデバイスとディスプレイへの応用技術
- 多結晶Si薄膜トランジスタの高性能化と高精細LCDライトバルブへの応用
- 電気的ストレスによるnおよびpチャネルPoly-Si TFTの劣化メカニズム
- 赤外分光法による金属リチウム表面被膜の分析
- 高性能多結晶Si薄膜トランジスタの作製と高精細LCDライトバルブの特性改善
- 固相成長とエキシマレーザアニール法で形成したPoly-Si薄膜の特性評価
- 2波長2ビームレーザを用いた光空間伝送システムの試作
- 低温Poly-Si TFTを用いたアクティブマトリックス型有機ELディスプレイ
- 低温Poly-Si TFTを用いたアクティブマトリックス型有機ELディスプレイ
- 低温Poly-Si TFTを用いたアクティブマトリックス型有機ELディスプレイ
- シリコン系太陽電池の現状と今後の展開
- SC-8-2 Poly-Si TFT技術の現状と今後の展開
- 16世紀イングランドにおける家政・教育・統治-家長のために書かれた二冊の助言書から-
- 初期近代イングランドの教育に関する文献
- 西欧家政論にみる「教育(education)」論-トマス・キッド『家長の哲学』(1588)を中心に
- 初期近代イングランドにおける親・子・教師 : 教育する権威とその淵源としての家政