Siウエファ表面への有機炭素吸着と自然酸化膜形成
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概要
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炭素原子の吸着機構についての調査をおこなうため、Siウエハを有機炭素含有水に浸漬後、自然酸化膜を成長させたSi表面をAFMおよびXPSによって調べた。マイクロファセットやステップのような幾何学的に凸凹をもつ位置は支配的な吸着位置とは考えにくいことをRaの測定結果により示した。また、C_ISと、自然酸化膜の測定結果より、炭素原子の吸着は自然酸化膜の成長と密接に関係している証拠を得た。有機炭素原子の吸着位置に関しては、クーロン力に起因する電界支援による炭素原子吸着のモデルを考察した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-04-23
著者
-
三好 正毅
山口大学工学部電気電子工学科
-
松尾 直人
山口大学工学部
-
松尾 直人
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
河本 直哉
山口大学工学部
-
松尾 直人
兵庫県大
-
藍原 大介
山口大学工学部電気電子工学科
-
福岡 達夫
山口大学工学部電気電子工学科
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